[实用新型]蚀刻设备

权利要求书

1.一种蚀刻设备，其特征在于，所述蚀刻设备用来对包覆有一光阻层的一金属滚轮进行蚀刻，所述蚀刻设备包括：

一滚轮固定装置，用来固定所述金属滚轮；其中，所述金属滚轮的长度介于1.6米～1.8米之间；

一浸润槽，间隔地设置于所述滚轮固定装置，并且所述浸润槽能用来容纳一蚀刻液；其中，所述金属滚轮能被用来浸润于所述浸润槽中的所述蚀刻液，使未包覆有所述光阻层的所述金属滚轮的部分被蚀刻，并对应形成一蚀刻图案；以及

一升降装置，承载所述浸润槽，并且所述升降装置用来使所述滚轮固定装置与所述浸润槽相对地移动，以使所述浸润槽能用来将所述浸润槽所容纳的所述蚀刻液浸润于局部所述金属滚轮；其中，所述升降装置能用来使所述浸润槽的内侧面与所述金属滚轮的外表面之间的距离介于0.1毫米～0.5毫米之间。

2.根据权利要求1所述的蚀刻设备，其特征在于，所述蚀刻设备还包含一无尘腔体，并且所述滚轮固定装置、所述浸润槽以及所述升降装置设置于所述无尘腔体中。

3.根据权利要求1所述的蚀刻设备，其特征在于，所述蚀刻设备还包含一转动装置，安装于所述滚轮固定装置，并且所述转动装置用来转动所述金属滚轮。

4.根据权利要求3所述的蚀刻设备，其特征在于，所述滚轮固定装置包含一夹持机构，所述夹持机构安装于所述转动装置，并且所述夹持机构用来夹持所述金属滚轮；其中，当所述转动装置运作时，所述转动装置会转动所述夹持机构，使所述金属滚轮被所述夹持机构转动。

5.根据权利要求3所述的蚀刻设备，其特征在于，所述蚀刻设备还包含一速度控制装置，电性耦接于所述转动装置，并且所述速度控制装置能用来使所述金属滚轮以介于1转/分钟至120转/分钟的速度转动。

6.根据权利要求1所述的蚀刻设备，其特征在于，所述浸润槽内侧的剖面呈半圆形，并且所述浸润槽定义有一中心轴线，所述浸润槽的长度方向与所述金属滚轮的长度方向相互平行。

7.根据权利要求1所述的蚀刻设备，其特征在于，所述升降装置还包含两个升降轨道及分别安装于两个所述升降轨道的两个升降平台，并且两个所述升降平台承载所述浸润槽。

8.根据权利要求7所述的蚀刻设备，其特征在于，所述升降装置还包含电性耦接于两个所述升降轨道的一距离控制器，并且所述距离控制器能用来控制两个所述升降平台，以使所述浸润槽的所述内侧面与所述金属滚轮的所述外表面之间的距离介于0.1毫米～0.3毫米之间。

9.根据权利要求1所述的蚀刻设备，其特征在于，所述蚀刻设备还包含一冲洗装置，间隔地设置于所述浸润槽，并且所述冲洗装置能用来对所述金属滚轮上的所述光阻层及所述金属滚轮的所述蚀刻图案喷水。

10.根据权利要求1所述的蚀刻设备，其特征在于，所述蚀刻设备还包含一烘烤装置，间隔地设置于所述滚轮固定装置，并且所述烘烤装置用来去除残留于所述光阻层及所述金属滚轮的所述蚀刻图案上的水。