[实用新型]蚀刻设备

说明书

本实用新型公开一种蚀刻设备，用来对包覆有一光阻层的一金属滚轮进行蚀刻，蚀刻设备包括用来固定金属滚轮的一滚轮固定装置、间隔地设置于滚轮固定装置的一浸润槽以及一升降装置。金属滚轮的长度介于1.6米～1.8米之间。浸润槽能用来容纳一蚀刻液。金属滚轮能被用来浸润于浸润槽中的蚀刻液，使未包覆有光阻层的金属滚轮的部分被蚀刻，并对应形成一蚀刻图案。升降装置用来使滚轮固定装置与浸润槽相对地移动，并且升降装置能用来使浸润槽的内侧面与金属滚轮的外表面之间的距离，介于0.1毫米～0.5毫米之间。借此，蚀刻设备能在使用少量的蚀刻液的情况下，即能完成对金属滚轮的蚀刻。

技术领域

本实用新型涉及一种蚀刻设备，特别是涉及一种滚轮蚀刻设备。

背景技术

现有的滚轮蚀刻设备在对金属滚轮进行蚀刻时，通常采用喷洒或浸润的方式，使蚀刻液能够均匀地分布于对应的金属滚轮上。然而，上述蚀刻液分布于金属滚轮的方式，经常耗费大量的蚀刻液，进而容易导致滚轮蚀刻制程的整体费用上升，并可能对环境造成负担。

故，如何通过结构设计的改良，来克服上述的缺陷，已成为该项事业所欲解决的重要课题之一。

实用新型内容

本实用新型实施例针对现有技术的不足提供一种蚀刻设备，其能有效地改善现有的蚀刻设备所可能产生的缺陷。

本实用新型的其中一个实施例公开一种蚀刻设备，用来对包覆有一光阻层的一金属滚轮进行蚀刻，所述蚀刻设备包括：一滚轮固定装置，用来固定所述金属滚轮；其中，所述金属滚轮的长度介于1.6米～1.8米之间；一浸润槽，间隔地设置于所述滚轮固定装置，并且所述浸润槽能用来容纳一蚀刻液；其中，所述金属滚轮能被用来浸润于所述浸润槽中的所述蚀刻液，使未包覆有所述光阻层的所述金属滚轮的部分被蚀刻，并对应形成一蚀刻图案；以及一升降装置，承载所述浸润槽，并且所述升降装置用来使所述滚轮固定装置与所述浸润槽相对地移动，以使所述浸润槽能用来将所述浸润槽所容纳的所述蚀刻液浸润于局部所述金属滚轮；其中，所述升降装置能用来使所述浸润槽的内侧面与所述金属滚轮的外表面之间的距离，介于0.1毫米～0.5毫米之间。

优选地，所述蚀刻设备还包含一无尘腔体，并且所述滚轮固定装置、所述浸润槽以及所述升降装置设置于所述无尘腔体中。

优选地，所述蚀刻设备还包含一转动装置，安装于所述滚轮固定装置，并且所述转动装置用来转动所述金属滚轮。

优选地，所述滚轮固定装置包含一夹持机构，所述夹持机构安装于所述转动装置，并且所述夹持机构用来夹持所述金属滚轮；其中，当所述转动装置运作时，所述转动装置会转动所述夹持机构，使所述金属滚轮被所述夹持机构转动。

优选地，所述蚀刻设备还包含一速度控制装置，电性耦接于所述转动装置，并且所述速度控制装置能用来使所述金属滚轮以介于1转/分钟至120转/分钟的速度转动。

优选地，所述浸润槽内侧的剖面呈半圆形，并且所述浸润槽定义有一中心轴线，所述浸润槽的长度方向与所述金属滚轮的长度方向相互平行。

优选地，所述升降装置还包含两个升降轨道及分别安装于两个所述升降轨道的两个升降平台，并且两个所述升降平台承载所述浸润槽。

优选地，所述升降装置还包含电性耦接于两个所述升降轨道的一距离控制器，并且所述距离控制器能用来控制两个所述升降平台，以使所述浸润槽的所述内侧面与所述金属滚轮的所述外表面之间的距离，介于0.1毫米～0.3毫米之间。

优选地，所述蚀刻设备还包含一冲洗装置，间隔地设置于所述浸润槽，并且所述冲洗装置能用来对所述金属滚轮上的所述光阻层及所述金属滚轮的所述蚀刻图案喷水。

优选地，所述蚀刻设备还包含一烘烤装置，间隔地设置于所述滚轮固定装置，并且所述烘烤装置用来去除残留于所述光阻层及所述金属滚轮的所述蚀刻图案上的水。