[实用新型]一种应用于阵列曝光真空干燥改善Mura的支撑装置有效
| 申请号： | 202122106863.5 | 申请日： | 2021-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN216210481U | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 卢锦正;徐顺龙 | 申请（专利权）人： | 浙江泰嘉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40;G02F1/13 |
| 代理公司： | 上海汇齐专利代理事务所(普通合伙) 31364 | 代理人： | 郭丹丹 |
| 地址： | 浙江省湖州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 阵列 曝光 真空 干燥 改善 mura 支撑 装置 | ||
1.一种应用于阵列曝光真空干燥改善Mura的支撑装置，包括操作台(1)，其特征在于，所述支撑装置包括磁性承托板(2)、支撑桩(3)、支撑机构(4)和气缸(5)；所述磁性承托板(2)的上表面设置有沿X轴方向的刻度线(6)和沿Y轴方向的刻度线(6)；所述磁性承托板(2)的上表面固定连接有若干支撑桩(3)，所述支撑桩(3)包括磁性底座(301)和支撑柱(302)，所述磁性底座(301)与磁性承托板(2)通过磁力吸附连接；
所述磁性承托板(2)的下表面固定连接有一对支撑机构(4)，所述支撑机构(4)包括支撑座一(401)、支撑座二(402)、活动支撑杆一(403)和活动支撑杆二(404)，一对所述支撑座一(401)固定连接于磁性承托板(2)的下表面，一对所述支撑座一(401)排列在磁性承托板(2)下表面的一条中线上并且一对所述支撑座一(401)关于磁性承托板(2)下表面的一条中线对称分布；一对所述支撑座二(402)固定连接于操作台(1)上并且一对所述支撑座二(402)位于同一侧；
所述活动支撑杆一(403)的顶端与支撑座一(401)转动连接，所述活动支撑杆一(403)的底端与支撑座二(402)转动连接，所述支撑座二(402)通过安装板(7)固定连接于操作台(1)上，所述活动支撑杆二(404)的顶端与支撑座一(401)转动连接，所述活动支撑杆二(404)的底端与操作台(1)滑动连接；一对所述活动支撑杆二(404)通过联动推杆(8)连接；
所述操作台(1)上还固定安装有气缸(5)，所述气缸(5)固定的端部通过L型连接板(9)固定安装于操作台(1)上，所述气缸(5)的活动的端部固定连接于联动推杆(8)上。
2.根据权利要求1所述的一种应用于阵列曝光真空干燥改善Mura的支撑装置，其特征在于，所述磁性底座(301)上开设有凹槽(10)。
3.根据权利要求1所述的一种应用于阵列曝光真空干燥改善Mura的支撑装置，其特征在于，所述活动支撑杆二(404)的底端固定连接有滚轮(11)，所述滚轮(11)与操作台(1)滚动连接。
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