[实用新型]一种应用于阵列曝光真空干燥改善Mura的支撑装置有效
申请号: | 202122106863.5 | 申请日: | 2021-09-02 |
公开(公告)号: | CN216210481U | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
发明(设计)人: | 卢锦正;徐顺龙 | 申请(专利权)人: | 浙江泰嘉光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/40 | 分类号: | G03F7/40;G02F1/13 |
代理公司: | 上海汇齐专利代理事务所(普通合伙) 31364 | 代理人: | 郭丹丹 |
地址: | 浙江省湖州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 应用于 阵列 曝光 真空 干燥 改善 mura 支撑 装置 | ||
本实用新型公开了一种应用于阵列曝光真空干燥改善Mura的支撑装置,属于LCD面板技术领域,包括操作台、磁性承托板、支撑桩、支撑机构和气缸;本实用新型通过在磁性承托板的上表面开设有若干X轴方向的刻度线和若干沿Y轴方向的刻度线,便于精确调节支撑桩的放置位置;支撑桩通过设置磁性底座与磁性承托板通过磁力相互吸附,便于将支撑桩固定在任意位置,所以能够避免干燥过程中LCD液晶面板上因支撑桩导致光阻固化不均匀而导致Mura的出现,提高LCD液晶产品良率;本实用新型通过设置气缸和联动推杆,能够调节被干燥的LCD液晶面板距离干燥源的距离,实现对干燥速率的精确调控,提高干燥效果,提高LCD液晶面板性能。
技术领域
本实用新型涉及LCD面板技术领域,具体是一种应用于阵列曝光真空干燥改善Mura的支撑装置。
背景技术
在LCD液晶面板制造行业阵列曝光(又称TFTPHOTO)工艺中,包含前清洗、光阻涂布、真空干燥、软烘烤、曝光、显影、硬烘烤等环节,最终定义出TFT图形;
真空干燥制程作为TFTPhoto的主要制程之一,是通过减压降低溶剂沸点的物理原理蒸发光阻溶剂,将LCD液晶面板上的光阻由液态转化为固态的工艺,在此制程过程中用于支撑LCD液晶面板的支撑柱(又称Pin),在与LCD液晶面板接触的位置易发生光阻固化不均匀的现象,从而导致Mura的产生。G8.5面板线经济切割可生产28寸、32寸、49寸、55寸、43寸混切等,根据市场需求,生产不同尺寸的产品。而当前用于支撑LCD液晶面板的支撑柱是固定位置的方式,以32寸的LCD液晶面板作为样板进行分布,将支撑柱布置在32寸Panel的交接处,使面板内无支撑柱接触,不会产生Mura。当生产其它尺寸的产品则,由于支撑柱为固定位置方式,故会有部分Pin与LCD液晶面板的接触位置在LCD液晶面板内,在LCD液晶面板上产生Mura,影响产品特性,尤其是生产4K/8K产品时,影响尤其严重,将直接导致面板由Y等级降低到L或K等级,导致产品只能以次品出售,大大降低了公司的利润率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种应用于阵列曝光真空干燥改善Mura的支撑装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种应用于阵列曝光真空干燥改善Mura的支撑装置,包括操作台,所述支撑装置包括磁性承托板、支撑桩、支撑机构和气缸;所述磁性承托板的上表面设置有沿X轴方向的刻度线和沿Y轴方向的刻度线;所述磁性承托板的上表面固定连接有若干支撑桩,所述支撑桩包括磁性底座和支撑柱,所述磁性底座与磁性承托板通过磁力吸附连接;
所述磁性承托板的下表面固定连接有一对支撑机构,所述支撑机构包括支撑座一、支撑座二、活动支撑杆一和活动支撑杆二,一对所述支撑座一固定连接于磁性承托板的下表面,一对所述支撑座一排列在磁性承托板下表面的一条中线上并且一对所述支撑座一关于磁性承托板下表面的一条中线对称分布;一对所述支撑座二固定连接于操作台上并且一对所述支撑座二位于同一侧;
所述活动支撑杆一的顶端与支撑座一转动连接,所述活动支撑杆一的底端与支撑座二转动连接,所述支撑座二通过安装板固定连接于操作台上,所述活动支撑杆二的顶端与支撑座一转动连接,所述活动支撑杆二的底端与操作台滑动连接;一对所述活动支撑杆二通过联动推杆连接;
所述操作台上还固定安装有气缸,所述气缸固定的端部通过L型连接板固定安装于操作台上,所述气缸的活动的端部固定连接于联动推杆上。
作为一种优选方案,上述磁性底座上开设有凹槽。
作为一种优选方案,上述活动支撑杆二的底端固定连接有滚轮,所述滚轮与操作台滚动连接。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
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