[实用新型]一种半导体片清洗设备有效
| 申请号： | 202122209180.2 | 申请日： | 2021-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN216288327U | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 刘柳珍 | 申请（专利权）人： | 刘柳珍 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;B08B5/02;B08B3/02 |
| 代理公司： | 东莞市卓易专利代理事务所(普通合伙) 44777 | 代理人： | 陈桂香 |
| 地址： | 510000 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 清洗 设备 | ||
1.一种半导体片清洗设备，包括设备主体(1)，其特征在于：所述设备主体(1)的外侧设置有清洗箱(2)，所述清洗箱(2)一侧的底端设置有存储箱(3)，所述存储箱(3)的一端安装有制冷器(4)，所述存储箱(3)的顶部安装有气泵(5)，所述气泵(5)的输出端设置有导气管(6)，所述清洗箱(2)的内部均匀设置有多组通气管(7)，所述通气管(7)的数目为十六组，其中十组所述通气管(7)的两侧皆设置有第一喷气端(9)，剩余六组所述通气管(7)的一侧皆设置有第二喷气端(10)，所述第一喷气端(9)和第二喷气端(10)的内部远离通气管(7)的一侧皆设置有增压端(11)，所述增压端(11)远离通气管(7)的一侧皆设置有喷气口(12)，每组所述通气管(7)相邻一侧的上方皆安装有电磁滑轨(13)，所述电磁滑轨(13)的底部皆活动安装有电动推杆(15)，所述电动推杆(15)的顶部皆设置有与电磁滑轨(13)相匹配的滑动块(14)，所述电动推杆(15)的底部皆设置有机械爪(16)。
2.根据权利要求1所述的一种半导体片清洗设备，其特征在于：所述存储箱(3)内部的底端填充有冷却水，且冷却水的含量占存储箱(3)内部空间的三分之一，所述气泵(5)的输出端位于冷却水的上方。
3.根据权利要求1所述的一种半导体片清洗设备，其特征在于：每组所述增压端(11)内部高度从靠近通气管(7)的一侧到远离通气管(7)的一侧依次递减。
4.根据权利要求1所述的一种半导体片清洗设备，其特征在于：所述通气管(7)远离导气管(6)的一端皆设置有对接块(8)，所述通气管(7)皆通过对接块(8)分别与清洗箱(2)固定连接。
5.根据权利要求1所述的一种半导体片清洗设备，其特征在于：每组所述通气管(7)的一端皆与导气管(6)的输出端连通。
6.根据权利要求1所述的一种半导体片清洗设备，其特征在于：所述存储箱(3)远离设备主体(1)一侧的顶端设置有贯穿至其内部一侧的通气孔。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
