[实用新型]一种微电子刻蚀深度的检测装置

权利要求书

1.一种微电子刻蚀深度的检测装置，包括操作台(1)，其特征在于：所述操作台(1)的上端开有一号滑槽(2)，所述一号滑槽(2)内滑动安装有移动机构(3)，所述操作台(1)的左端中部和右端中部共同固定安装有支撑架(4)，所述支撑架(4)为U型结构，所述支撑架(4)的对立端均开有二号滑槽(5)，两个所述二号滑槽(5)之间共同滑动安装有升降机构(6)，所述升降机构(6)的上端中部穿插连接有摄像头(7)，所述升降机构(6)的上端左右两侧均穿插连接有可见光发射器(8)，所述支撑架(4)的上端固定安装有控制器(9)，且摄像头(7)和可见光发射器(8)均与控制器(9)电性连接。

2.根据权利要求1所述的一种微电子刻蚀深度的检测装置，其特征在于：所述移动机构(3)包括一号正反电机(31)，所述一号正反电机(31)固定安装在操作台(1)的前端，所述一号正反电机(31)的输出端固定安装有一号螺杆(32)，所述一号螺杆(32)的后端贯穿一号滑槽(2)的前槽壁并通过轴承与一号滑槽(2)的后槽壁活动安装，所述一号螺杆(32)上螺纹连接有一号滑块(33)，所述一号滑块(33)的上端固定安装有放置架(34)，所述放置架(34)为U型结构，所述放置架(34)的对立端均固定安装有两个弹簧(35)，且两个弹簧(35)之间共同固定安装有夹持板(36)。

3.根据权利要求2所述的一种微电子刻蚀深度的检测装置，其特征在于：所述一号滑块(33)的结构与一号滑槽(2)的结构相适配，所述一号滑块(33)滑动安装在一号滑槽(2)内且放置架(34)位于操作台(1)的上端。

4.根据权利要求1所述的一种微电子刻蚀深度的检测装置，其特征在于：所述升降机构(6)包括二号电机(61)和升降板(63)，所述二号电机(61)固定安装在支撑架(4)的上端左侧，所述二号电机(61)的输出端固定安装有二号螺杆(62)，所述二号螺杆(62)的下端贯穿左侧二号滑槽(5)的上槽壁并通过轴承与二号滑槽(5)的下槽壁活动安装，所述升降板(63)的左右两端均一体成型有二号滑块(64)，且左侧的二号滑块(64)套接在二号螺杆(62)上与二号螺杆(62)螺纹连接。

5.根据权利要求4所述的一种微电子刻蚀深度的检测装置，其特征在于：所述二号滑块(64)的结构与二号滑槽(5)的结构相适配，两个所述二号滑块(64)分别滑动安装在对应的二号滑槽(5)内将升降机构(6)与支撑架(4)滑动安装。

6.根据权利要求1所述的一种微电子刻蚀深度的检测装置，其特征在于：两个所述可见光发射器(8)呈左右对称分布，且左侧可见光发射器(8)与摄像头(7)之间呈30度角倾斜。