[实用新型]一种微电子刻蚀深度的检测装置

说明书

本实用新型公开了一种微电子刻蚀深度的检测装置，包括操作台(1)，操作台(1)的上端开有一号滑槽(2)，所述一号滑槽(2)内滑动安装有移动机构(3)，所述操作台(1)的左端中部和右端中部共同固定安装有支撑架(4)，所述支撑架(4)为U型结构，所述支撑架(4)的对立端均开有二号滑槽(5)，两个所述二号滑槽(5)之间共同滑动安装有升降机构(6)，所述升降机构(6)的上端中部穿插连接有摄像头(7)，所述升降机构(6)的上端左右两侧均穿插连接有可见光发射器(8)，所述支撑架(4)的上端固定安装有控制器(9)，且摄像头(7)和可见光发射器(8)均与控制器(9)电性连接。本实用新型所述的一种微电子刻蚀深度的检测装置，可以适应不通宽度的煤矿掘进矿道，结构简单牢固，灵活性强，安全性能高。

技术领域

本实用新型涉及微电子刻蚀加工技术领域，特别涉及一种微电子刻蚀深度的检测装置。

背景技术

离子束刻蚀是一种应用十分广泛的微细加工技术，它通过离子束对材料的物理溅射作用达到去除材料和成形的目的，具有分辨率高、定向性好等优点，刻蚀深度是离子束刻蚀技术中的一个重要的指标，因此，对刻蚀深度的监控是刻蚀过程中一个重要的技术环节。

目前，大多采用时间控制法来监控刻蚀过程中的刻蚀深度或采用人工进行逐个检查刻蚀情况，时间控制法是用需刻蚀的深度除以事先测出的待刻蚀材料的刻蚀速率，得到在相同工艺条件下该材料被刻蚀的时间，由于刻蚀速率与多种因素有关，在刻蚀过程中很难保持定值，误差较大；人工检查其不仅效率低而且对操作工人的视力损耗大，也使得生产流水线的生产效率得到制约，判断多根据个人经验进行，因此判断结果往往差异较大，稳定性不好。故此，我们提出了一种微电子刻蚀深度的检测装置。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种微电子刻蚀深度的检测装置，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种微电子刻蚀深度的检测装置，包括操作台，所述操作台的上端开有一号滑槽，所述一号滑槽内滑动安装有移动机构，所述操作台的左端中部和右端中部共同固定安装有支撑架，所述支撑架为U型结构，所述支撑架的对立端均开有二号滑槽，两个所述二号滑槽之间共同滑动安装有升降机构，所述升降机构的上端中部穿插连接有摄像头，所述升降机构的上端左右两侧均穿插连接有可见光发射器，所述支撑架的上端固定安装有控制器，且摄像头和可见光发射器均与控制器电性连接。

优选的，所述移动机构包括一号正反电机，所述一号正反电机固定安装在操作台的前端，所述一号正反电机的输出端固定安装有一号螺杆，所述一号螺杆的后端贯穿一号滑槽的前槽壁并通过轴承与一号滑槽的后槽壁活动安装，所述一号螺杆上螺纹连接有一号滑块，所述一号滑块的上端固定安装有放置架，所述放置架为U型结构，所述放置架的对立端均固定安装有两个弹簧，且两个弹簧之间共同固定安装有夹持板。

优选的，所述一号滑块的结构与一号滑槽的结构相适配，所述一号滑块滑动安装在一号滑槽内且放置架位于操作台的上端。

优选的，所述升降机构包括二号电机和升降板，所述二号电机固定安装在支撑架的上端左侧，所述二号电机的输出端固定安装有二号螺杆，所述二号螺杆的下端贯穿左侧二号滑槽的上槽壁并通过轴承与二号滑槽的下槽壁活动安装，所述升降板的左右两端均一体成型有二号滑块，且左侧的二号滑块套接在二号螺杆上与二号螺杆螺纹连接。

优选的，所述二号滑块的结构与二号滑槽的结构相适配，两个所述二号滑块分别滑动安装在对应的二号滑槽内将升降机构与支撑架滑动安装。

优选的，两个所述可见光发射器呈左右对称分布，且左侧可见光发射器与摄像头之间呈30度角倾斜。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：