[实用新型]一种支撑掩膜版、支撑掩膜组件及蒸镀掩膜部件

权利要求书

1.一种支撑掩膜版，其特征在于，该支撑掩膜版(2)上具有若干上下贯通的蒸镀孔(21)，所述的蒸镀孔(21)呈矩形阵列的形式排列；

所述的蒸镀孔(21)的上口处设置有凹槽(22)，该凹槽(22)从蒸镀孔(21)的上口边缘向蒸镀孔(21)的外围扩展；

所述的凹槽(22)的宽度为d1，所述的蒸镀孔(21)的上口宽度为d2，1mm≤d1-d2≤3mm。

2.根据权利要求1所述的支撑掩膜版，其特征在于，所述的凹槽(22)的宽度为d1，所述的蒸镀孔(21)的上口宽度为d2，1.5mm≤d1-d2≤2.5mm。

3.根据权利要求1所述的支撑掩膜版，其特征在于，所述的支撑掩膜版(2)的厚度为h0，100μm≤h0≤300μm；

所述的凹槽(22)的深度为h1，10μm≤h1≤20μm。

4.根据权利要求3所述的支撑掩膜版，其特征在于，所述的支撑掩膜版(2)的厚度为h0，100μm≤h0≤200μm。

5.根据权利要求1所述的支撑掩膜版，其特征在于，所述的蒸镀孔(21)的上口宽度为d2，下口宽度为d3，d2≤d3。

6.根据权利要求1所述的支撑掩膜版，其特征在于，所述的蒸镀孔(21)包括上部孔体(211)和下部孔体(212)，上部孔体(211)由所述的凹槽(22)的底部向下延伸，下部孔体(212)由所述的支撑掩膜版(2)的下侧面向上延伸并与上部孔体(211)贯通；

所述的蒸镀孔(21)的上口宽度为d2，下口宽度为d3，上部孔体(211)与下部孔体(212)交界处的宽度为d4，d4＜d2＜d3。

7.根据权利要求5或6所述的支撑掩膜版，其特征在于，所述的蒸镀孔(21)的上口宽度d2和下口宽度d3满足：150μm≤d3-d2≤200μm。

8.根据权利要求6所述的支撑掩膜版，其特征在于，所述的上部孔体(211)的深度为h2，10μm≤h2≤15μm；

所述的下部孔体(212)的侧壁的倾角为α，30°≤α≤60°。

9.一种支撑掩膜组件，其特征在于，包括：

权利要求1至8任一中所述的支撑掩膜版(2)；以及

掩膜框架(3)，所述的掩膜框架(3)包括框体(31)，框体(31)的中部具有蒸镀窗口(32)；

所述的支撑掩膜版(2)设置在上述的掩膜框架(3)的上侧，该支撑掩膜版(2)上的所述的蒸镀孔(21)均位于所述的蒸镀窗口(32)的内侧区域中。

10.一种蒸镀掩膜部件，其特征在于，包括：

权利要求9中所述的支撑掩膜组件；以及

精细金属掩膜版(1)，所述的精细金属掩膜版(1)上具有至少一个蒸镀图案区域(11)，所述的蒸镀图案区域(11)内具有若干供蒸镀膜料通过的开口图案；

所述的精细金属掩膜版(1)设置在所述的支撑掩膜版(2)的上侧，且所述的蒸镀图案区域(11)与所述的蒸镀孔(21)相适配。