[实用新型]一种石墨舟用陶瓷环及石墨舟有效

专利信息
申请号: 202122280335.1 申请日: 2021-09-18
公开(公告)号: CN216074031U 公开(公告)日: 2022-03-18
发明(设计)人: 刘赖生;邢国强;姚骞;吴伟梁 申请(专利权)人: 通威太阳能(眉山)有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458;C23C16/24;H01L21/673;H01L31/18
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 付兴奇
地址: 620000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 石墨 陶瓷
【说明书】:

本申请提供一种石墨舟用陶瓷环及石墨舟,陶瓷环包括陶瓷环本体,陶瓷环本体的外壁设置有沿其周向且朝其内壁凹陷的环状凹槽;石墨舟包括多根陶瓷固定柱、多个石墨舟页以及多个陶瓷环,每个石墨舟页上设置有固定通孔,陶瓷固定柱穿过每个石墨舟页的固定通孔以固定多个石墨舟页,陶瓷环套设于陶瓷固定柱上以支撑隔离相邻两个石墨舟页。环状凹槽降低非晶硅在其内部沉积的概率,减少沉积在陶瓷环表面的非晶硅的量,并将陶瓷环本体周壁沉积的非晶硅层隔断,避免陶瓷环本体周壁沉积沿其轴向连续的非晶硅,进而降低相邻两片石墨舟页导通、短路的概率,降低石墨舟页损坏的风险,使硅片的非晶硅层的沉积能正常进行,提高硅片的良率与产能。

技术领域

本申请涉及光伏电池技术领域,具体而言,涉及一种石墨舟用陶瓷环及石墨舟。

背景技术

光伏太阳能电池是一种利用太阳能光转换成电的光电半导体薄片,在其生产制造过程中,电池的转换效率作为电池的一项核心指标而备受重视。为了提高转换效率,TOPCon(隧穿氧化层钝化接触)工艺应运而生。该工艺需要增加核心的Poly(非晶硅)层,其一般采用PECVD(低温等离子体增强型化学气相沉积)沉积生成。

石墨舟作为对太阳能硅片进行PECVD镀膜时的载体,在进行镀膜时,将插有未镀膜硅片的石墨舟送入PECVD真空镀膜设备中利用PECVD工艺对硅片进行非晶硅沉积形成Poly层。石墨舟包括陶瓷环以及可放置太阳能硅片的石墨舟页,陶瓷环将两片连接不同电极的石墨舟页绝缘隔离,使两片石墨舟页之间形成电场,进而完成硅片上非晶硅的沉积。

但在进行PECVD的过程中,石墨舟页会出现损坏的情况,进而影响硅片上非晶硅层的沉积,降低硅片的良率。

实用新型内容

发明人研究发现,在非晶硅沉积的过程中,位于电场之中的陶瓷环外壁上也会沉积非晶硅,随着陶瓷环使用次数以及使用时间的增长,其上沉积的非晶硅会越来越厚,作为半导体的非晶硅随着厚度的增加导电性增强,导致原本作为绝缘体将石墨舟页隔离的陶瓷环转变为了导体,将两个作为不同电极的石墨舟页导通,造成相邻石墨舟页短路,使得石墨舟页损坏,影响硅片上非晶硅层的沉积。

基于此,本申请的第一目的在于提供一种石墨舟用陶瓷环,可以减少沉积在陶瓷环表面的非晶硅的量,降低石墨舟页损坏的风险,提高硅片的良率。

本申请的第二目的在于提供一种石墨舟,其能提高硅片的良率,降低石墨舟的故障率。

为实现上述目的,本申请采用以下技术手段:

本申请第一方面提供一种石墨舟用陶瓷环,陶瓷环包括陶瓷环本体,陶瓷环本体的外壁设置有沿其周向且朝其内壁凹陷的环状凹槽。

在使用石墨舟对硅片进行非晶硅层的沉积过程中,使用陶瓷环将相邻的两片石墨舟页进行隔离支撑,相邻的两片石墨舟页连接不同电极,两石墨舟页之间形成电场。在陶瓷环本体上设置环状凹槽,由于陶瓷环本体是绝缘的,环状凹槽内部很难形成电场,降低非晶硅在环状凹槽内部沉积的可能性。环状凹槽将陶瓷环本体周壁沉积的非晶硅层隔断,避免陶瓷环本体周壁沉积沿其轴向连续的非晶硅,降低非晶硅在其表面的沉积,进而降低相邻两片石墨舟页导通、短路的概率,降低石墨舟页损坏的风险,使硅片的非晶硅层的沉积能正常进行,提高硅片的良率与产能。

进一步的,陶瓷环本体为圆柱状,环状凹槽与陶瓷环本体同轴设置。

将陶瓷环本体设置为圆柱状,环状凹槽为圆环状,整个陶瓷环本体的周壁与环状凹槽均为圆滑结构,进一步降低非晶硅沉积在陶瓷环本体周壁的概率。

进一步的,环状凹槽的槽口宽度为0.2mm-0.3mm。此范围的槽口宽度可以在使用石墨舟对硅片进行非晶硅层的沉积过程中,进一步避免环状凹槽内电场的形成,避免非晶硅在环状凹槽内部的沉积。

进一步的,陶瓷环本体沿其轴向的长度为10mm-13mm,环状凹槽的数量为5-15个,其间隔分布于陶瓷环本体的外壁。

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