[实用新型]一种用于锗单晶片的简易高效吹干装置

权利要求书

1.一种用于锗单晶片的简易高效吹干装置，其特征在于：包括支架、引风支撑板、支撑网和热风装置；

引风支撑板包括第一引风支撑板和第二引风支撑板，第一引风支撑板和第二引风支撑板平行、且相对设置，第一引风支撑板设在支架顶部、第二引风支撑板设在支架底部；第一引风支撑板和第二引风支撑板上分别设有两个以上的引风口，热风装置可向各引风口提供热风；

第一引风支撑板和第二引风支撑板之间的支架上设有两层以上结构相同的支撑边框；支撑边框包括内支撑框和外支撑框，内支撑框和外支撑框均为环状结构，内支撑框的外环与外支撑框的内环沿周边连接，且内支撑框的上表面低于外支撑框的上表面、形成一阶台阶状；支撑网可活动支撑在任何一层支撑边框的内支撑框上，支撑网的上表面设有两个以上的环形卡环。

2.如权利要求1所述的用于锗单晶片的简易高效吹干装置，其特征在于：支架包括平行、且相对设置的左支撑纵板和右支撑纵板，左支撑纵板和右支撑纵板沿纵向设置；第一引风支撑板和第二引风支撑板均为长方形结构，第一引风支撑板和第二引风支撑板均为长度方向上一端与左支撑纵板连接、长度方向上另一端与右支撑纵板连接。

3.如权利要求2所述的用于锗单晶片的简易高效吹干装置，其特征在于：内支撑框和外支撑框均为长方形环状结构，内支撑框外环的长度和宽度分别大于支撑网的长度和宽度，内支撑框内环的长度和宽度分别小于支撑网的长度和宽度；外支撑框长度方向的两端分别连接左支撑纵板和右支撑纵板。

4.如权利要求3所述的用于锗单晶片的简易高效吹干装置，其特征在于：宽度方向上，内支撑框内环到对面内支撑框外环的距离小于支撑网的宽度；长度方向上，内支撑框内环到对面内支撑框外环的距离小于支撑网的长度。

5.如权利要求4所述的用于锗单晶片的简易高效吹干装置，其特征在于：还包括移动杆，移动杆的一端为握持端、另一端转动连接在支撑网的底部中央。

6.如权利要求5所述的用于锗单晶片的简易高效吹干装置，其特征在于：支撑边框上设有用于移动杆进出的缺口；内支撑框内环到同一侧内支撑框外环的距离为3～6cm。

7.如权利要求2-6任意一项所述的用于锗单晶片的简易高效吹干装置，其特征在于：左支撑纵板和右支撑纵板底部分别设有两个抬高脚；热风装置为吹风机，第一引风支撑板和第二引风支撑板上分别至少设有一个吹风机，吹风机的出风口可活动插接在第一引风支撑板和第二引风支撑板上的任何一个引风口中。

8.如权利要求7所述的用于锗单晶片的简易高效吹干装置，其特征在于：第一引风支撑板上表面每个引风口的外围均设有第一限位环，位于第一引风支撑板上的吹风机的出风口穿过第一限位环伸入第一引风支撑板上的引风口中。

9.如权利要求8所述的用于锗单晶片的简易高效吹干装置，其特征在于：还包括支撑板和第二限位环，支撑板设在第二引风支撑板底部，第二限位环活动置于支撑板上，位于第二引风支撑板上的吹风机底部支撑在第二限位环上，吹风机的出风口伸入第二引风支撑板上的引风口中，第二限位环的侧壁上设有透气孔。

10.如权利要求1-6任意一项所述的用于锗单晶片的简易高效吹干装置，其特征在于：支撑网沿周边设有加强边。