[实用新型]一种掩膜版涂胶装置

说明书

本实用新型公开了一种掩膜版涂胶装置，包括连接有旋转装置的涂胶平台，所述涂胶平台上设置有用于放置待涂胶掩膜版且连接有升降装置的升降板，所述升降板上方设置有可升降的涂胶盖板；在涂胶时，所述涂胶盖板下降至所述涂胶平台上并覆盖在待涂胶掩膜版上方，随所述涂胶平台和待涂胶掩膜版同步旋转；本实用新型的掩膜版涂胶装置，通过真空吸附的方法实现对掩膜版进行固定，然后利用旋转的方式实现涂胶，保障待涂胶掩膜版的稳定性，提高涂布膜厚的均一性；在待涂胶掩膜版上设置涂胶盖板，缩小待涂胶掩膜版上部空间大小，改善气流，避免出现大面积、大速度的空气流动问题，实现确保膜厚的稳定性。

技术领域

本实用新型属于掩膜版生产设备领域，更具体的说涉及一种掩膜版涂胶装置。

背景技术

光刻掩膜版(Photomask)也称光罩或MASK，是一种用于微电子制造过程中的图形转移工具或模版。通过曝光、显影以及蚀刻等工序，在玻璃铬版上制作需要的微观图形，主要应用于微电子平版印刷。制作掩膜版所使用的原材料为铬版，其是一种硬面掩膜版材料，即掩膜版基版。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射沉积上铬-氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)制成铬版原料。

涂胶机是用来将光刻胶均匀地涂布在玻璃基板的一种工艺设备，涂布平台在涂布时用来放置玻璃基板，如果涂布平台的某个支撑点发生高度的变化，则涂布平台会发生倾斜，水平度变差，会引起涂布时涂布间隙不一致，导致涂布均一性变差。现有的涂胶机构造中，无法监控涂布平台的支撑点的高度变化，也难以对平台的水平度进行调整。目前结构中存在以下两点不足：A.无法实时监控涂布平台的水平度，即使涂布平台发生倾斜，也无法及时发现。B.涂布平台调整时无量化标准，只能凭感觉手动调整，调整难度大，而且调整后水平度难以保证。然而，在现有机构上只有框架夹具，基板的稳定性很难保证。

为此，涂布平台底座增加Vacuum吸附(真空)，平台旋转过程，更有利保障基板的稳定性，提高涂布膜厚的均一性，其次，涂胶平台上面增加CUP COVER(橡胶垫杯盖),改善气流，气流直接膜厚的稳定性

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种掩膜版涂胶装置，通过真空吸附的方法实现对掩膜版进行固定，然后利用旋转的方式实现涂胶，保障待涂胶掩膜版的稳定性，提高涂布膜厚的均一性；在待涂胶掩膜版上设置涂胶盖板，缩小待涂胶掩膜版上部空间大小，改善气流，避免出现大面积、大速度的空气流动问题，实现确保膜厚的稳定性。

本实用新型技术方案一种掩膜版涂胶装置，包括连接有旋转装置的涂胶平台，所述涂胶平台上设置有用于放置待涂胶掩膜版且连接有升降装置的升降板，所述升降板上方设置有可升降的涂胶盖板；在涂胶时，所述涂胶盖板下降至所述涂胶平台上并覆盖在待涂胶掩膜版上方，随所述涂胶平台和待涂胶掩膜版同步旋转。

优选地，所述升降板的上表面上设置有若干支撑垫，待涂胶掩膜版置于升降板上并由所述支撑垫支撑。

优选地，所述支撑垫由硅胶制成，支撑垫包括设置在升降板中心位置的大支撑块、均布设置在升降板整个上表面上的若干支撑点柱和绕设在升降板外边沿位置的密封支撑圈。

优选地，所述升降板上还连接有真空装置，所述真空装置包括设置在升降板上的若干抽真空孔、穿过涂胶平台且与所述抽真空孔连通的抽真空管和连接在所述抽真空管末端的真空机。

优选地，所述升降板尺寸不大于待涂胶掩膜版尺寸。

优选地，所述涂胶平台的上表面上设置有第一容置槽，所述升降板置于所述第一容置槽内，所述升降装置包括第一升降气缸，所述第一升降气缸竖直安装于所述涂胶平台底部且第一升降气缸的气缸推杆穿过所述涂胶平台与所述升降板固接。

优选地，所述涂胶平台的上表面上设置有第二容置槽，所述第二容置槽套设在所述第一容置槽外部并与所述第一容置槽中心线重合，所述第二容置槽尺寸与待涂胶掩膜版尺寸相适应。