[实用新型]一种等离子体CVD设备的腔体结构

权利要求书

1.一种等离子体CVD设备的腔体结构，其特征是，所述腔体结构包括固定座（1）、设置在固定座上的圆筒状侧壁（2）及设于侧壁上端的顶盖（3），固定座、侧壁及顶盖围合构成所述等离子体CVD设备的内腔，侧壁内设有腔体水冷腔，顶盖上设有进气口（4），固定座上设有排气孔（5），内腔的下部设有内台（6），所述内台通过绝缘支撑环（7）设置在固定座上，内台内部设有内台水冷腔（8），内台水冷腔的底部与内台水冷管（9）连接，固定座的中部设有通孔（10），通孔的下端口设有引导微波进入内腔的波导连接法兰管（11），所述内台水冷管穿设在波导连接法兰管的中央。

2.根据权利要求1所述的等离子体CVD设备的腔体结构，其特征在于，所述内台的顶部中央嵌设有散热板（12），所述散热板构成所述内台水冷腔的腔顶，散热板的上表面与内台的顶面在同一平面上，散热板的外周与内台之间设有密封圈。

3.根据权利要求1所述的等离子体CVD设备的腔体结构，其特征在于，所述的绝缘支撑环为石英玻璃，绝缘支撑环的上下两端分别嵌设在内台及固定座上，绝缘支撑环与内台及固定座之间均设有密封环（13）。

4.根据权利要求1所述的等离子体CVD设备的腔体结构，其特征在于，顶盖底面中央设有与侧壁配合的下凸台，下凸台的底面设有环形槽（14），所述环形槽与进气口连通，环形槽的槽口设有环形盖板（15），沿盖板的周向均匀设有进气孔，所述环形槽及进气孔构成均匀进气装置，顶盖与侧壁顶面之间设有用于防止微波泄漏的簧片（16）。

5.根据权利要求1所述的等离子体CVD设备的腔体结构，其特征在于，所述顶盖上设有凹腔，凹腔处设有顶端水冷腔（17），顶端水冷腔内竖直设有进水管（18），所述进水管的上端开口位于顶端水冷腔的顶部，进水管的下端开口靠近顶端水冷腔的底部，顶端水冷腔的排水口（19）设置在顶端水冷腔的顶部。

6.根据权利要求1所述的等离子体CVD设备的腔体结构，其特征在于，内腔为上小下大的阶体轴结构，包括上腔（20）与下腔（21），上、下腔之间通过锥面（22）过渡连接，内腔的外周设有若干贯穿侧壁的观察窗（23），所述观察窗的内端位于锥面上，腔体上还设有测温孔。

7.根据权利要求1所述的等离子体CVD设备的腔体结构，其特征在于，所述腔体水冷腔包括位于侧壁上部的环形腔（24）及位于侧壁下部且与环形腔连通的筒形腔（25），腔体水冷腔的进水口（26）设置在筒形腔的底部，腔体水冷腔的出水口（27）设置在环形腔的顶部；侧壁的底部设有支撑圈（28），腔体水冷腔的进水口设置在支撑圈上，支撑圈的底面与固定座之间设有密封圈（29）。

8.根据权利要求1所述的等离子体CVD设备的腔体结构，其特征在于，所述的排气孔环绕固定座上的通孔均匀布置，固定座的底面设有覆盖所述排气孔的集气槽（30），所述的集气槽上设有排气口（31）。