[实用新型]清洗槽和清洗装置

说明书

本实用新型提出了一种清洗槽和清洗设备，其中，清洗槽包括：槽体组件，槽体组件设有开口，内部具有腔体；第一挡板，设于槽体组件的开口一侧，并遮挡部分开口；第二挡板，设于槽体组件的开口一侧，与第一挡板相对设置，并遮挡部分开口；盖板组件，设于槽体组件开口处，盖板组件能够开启或闭合，其中，在盖板组件闭合时，盖板组件的至少部分位于第一挡板和第二挡板之间，以关闭开口。本实用新型提出的清洗槽，第一挡板和第二挡板可以针对槽体组件的结构，将结构复杂，无法设置可开合盖体组件的部分进行遮挡，增强第一挡板和盖板组件之间的密封性，增强第二挡板和盖板组件之间的密封性，减少了清洗槽开口处的缝隙，减少清洗液的蒸发量，节约成本。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，具体而言涉及一种清洗槽和一种清洗装置。

背景技术

在半导体行业，晶圆湿法清洗设备中，晶圆清洗槽往往会忽略药液利用率的问题。在有高温要求的工艺中，药液会从槽体的挥发出去，被设备内部抽风带走，实际上是造成了一种药液浪费，也是成本的浪费。

实用新型内容

本实用新型旨在解决或改善现有技术中存在的技术问题之一。

为此，本实用新型的第一方面提出了一种清洗槽。

本实用新型的第二方面提出了一种清洗装置。

有鉴于此，根据本实用新型的第一方面，本实用新型提出了一种清洗槽，包括：槽体组件，槽体组件设有开口，内部具有腔体；第一挡板，设于槽体组件的开口一侧，并遮挡部分开口；第二挡板，设于槽体组件的开口一侧，与第一挡板相对设置，并遮挡部分开口；盖板组件，设于槽体组件开口处，盖板组件能够开启或闭合，其中，在盖板组件闭合时，盖板组件的至少部分位于第一挡板和第二挡板之间，以封闭开口。

本实用新型提出的清洗槽，包括槽体组件、第一挡板、第二挡板和盖板组件，槽体组件包括有腔体和与腔体相连通的开口，第一挡板、第二挡板和盖板组件遮挡在开口处，并且盖板组件开启时，使得开口打开，以向腔体内放置半导体材料，在盖板组件闭合时，使得开口关闭，减少半导体元件在清洗时，清洗液的蒸发量，节约成本。

并且，开口处设置的第一挡板、第二挡板和盖板组件形成三段式结构，而第一挡板和第二挡板无需设置成可开合的状态，并且，可以针对槽体组件的结构，将结构复杂，无法设置可开合盖体组件的部分，通过第一挡板和第二挡板遮挡，所以可以增强第一挡板和盖板组件之间的密封性，以及增强第二挡板和盖板组件之间的密封性，进而减少了清洗槽开口处的缝隙，进一步减少半导体元件在清洗时，清洗液的蒸发量，节约成本。

另外，根据本实用新型提供的上述技术方案中的清洗槽，还可以具有如下附加技术特征：

在上述技术方案的基础上，进一步地，盖板组件包括：第一盖板和第二盖板，第一盖板和第二盖板能够开启或闭合，在第一盖板和第二盖板闭合时，第一盖板和第二盖板位于第一挡板和第二挡板之间；第一转轴，可转动地安装于槽体组件，第一盖板设于第一转轴上；第二转轴，可转动地安装于槽体组件，第二盖板设于第二转轴上；驱动模块，与第一转轴和第二转轴驱动连接，用于通过第一转轴驱动第一盖板转动，还用于通过第二转轴驱动第二盖板转动；驱动模块，驱动模块，与第一转轴和第二转轴驱动连接，用于通过第一转轴驱动第一盖板转动，还用于通过第二转轴驱动第二盖板转动。

在该技术方案中，盖板组件包括第一盖板、第二盖板、第一转轴和第二转轴，盖板组件成两扇的形式，进行对开，从而降低盖板组件开启时所需要的空间，便于清洗槽的安放。

盖板组件还包括驱动模块，可以驱动第一转轴和第二转轴转动，从而带动第一盖板和第二盖板开启或闭合，进而实现了第一盖板和第二盖板的自动化开启，节省人力。

具体地，第一盖板的转动角度小于180度；第二驱动件第二盖板的转动角度小于180度。