[实用新型]一种铜箔清洗装置

权利要求书

1.一种铜箔清洗装置，其特征在于，包括清洗水池，所述清洗水池前侧设有第一工作座，第一工作座上设有用于输送铜箔的输送机构，第一工作座上设有形状为“n”型的刮水架，刮水架位于输送机构的后方，刮水架内设有上固定座，上固定座左右两侧与刮水架内左右两侧转动配合，上固定座向下倾斜，上固定座前侧横向成型有上固定凸板，上固定凸板下设有对铜箔表面的水珠刮落的上刮水板，上刮水板具有弹性，刮水架前侧焊有上限位架，上限位架位于上刮水板上方，上限位架底面设有第一弹簧，第一弹簧底面与上固定凸板顶面连接。

2.根据权利要求1所述的一种铜箔清洗装置，其特征在于，所述刮水架左右两端钻有连通刮水架内部的第一转孔，上固定座左右两端横向设有与第一转孔转动配合的第一转轴，上固定凸板上开有第一固定孔，第一弹簧下端穿过第一固定孔并与第一固定孔螺纹配合，上限位架底面竖直焊有第一固定筒，第一弹簧上端穿过第一固定筒的内筒并与第一固定筒的内筒螺纹配合，上刮水板的材料为塑料，上刮水板通过螺丝固定在上固定凸板下，上刮水板的前侧为斜面，且斜面朝上。

3.根据权利要求2所述的一种铜箔清洗装置，其特征在于，刮水架内设有下固定座，下固定座位于上固定座下方，下固定座左右两侧与刮水架内左右两侧转动配合，下固定座向上倾斜，并与上固定座相对称，下固定座前侧横向成型有下固定凸板，下固定凸板上设有对铜箔背面的水珠刮落的下刮水板，下刮水板具有弹性，刮水架内焊有下限位架，上限位架位于下刮水板下方，下限位架顶面设有第二弹簧，第二弹簧底面与下固定凸板底面连接。

4.根据权利要求3所述的一种铜箔清洗装置，其特征在于，所述刮水架左右两端钻有连通刮水架内部的第二转孔，第二转孔位于第一转孔下方，下固定座左右两端横向设有与第二转孔转动配合的第二转轴，下固定凸板下开有第二固定孔，第二弹簧上端穿过第二固定孔并与第二固定孔螺纹配合，下限位架底面竖直焊有第二固定筒，第二弹簧下端穿过第二固定筒的内筒并与第二固定筒的内筒螺纹配合，下刮水板的材料为塑料，下刮水板通过螺丝固定在下固定凸板上，下刮水板的前侧为斜面，且斜面朝下并与上刮水板相对称。

5.根据权利要求1所述的一种铜箔清洗装置，其特征在于，所述清洗水池后侧设有第二工作座，输送机构包括输送架，所述输送架的数量为两个且分别位于第一工作座上和第二工作座上，输送架的形状为“n”型，输送架内横向设有两个输送滚筒，输送架外设有驱动输送滚筒滚动的输送电机，清洗水池内横向设有紧张滚筒，紧张滚筒左右两端与清洗水池内左右两侧转动配合。

6.根据权利要求1所述的一种铜箔清洗装置，其特征在于，所述清洗水池上左右两侧设有可活动的挡水板。

7.根据权利要求6所述的一种铜箔清洗装置，其特征在于，所述清洗水池上左右两侧横向设有导轨，挡水板下设有与导轨滑动配合的滑块，刮水架右侧粘有第一磁铁，挡水板左侧粘有第二磁铁，当挡水板向左滑动时，第一磁铁与第二磁铁吸合。