[实用新型]一种连续式晶体硅高效应力释放设备

权利要求书

1.一种连续式晶体硅高效应力释放设备，包括依次设置的进料输送机构(1)、上料机构(3)、加热炉(5)、接料机构、水箱(9)和出料输送机构(7)，其特征在于：所述加热炉(5)的底面安装有滚轴箱体(6)，所述滚轴箱体(6)内沿其长度方向通过轴承安装有多个下滚筒(13)，多个所述下滚筒(13)间安装有动力机构(14)；

所述加热炉(5)内沿其长度方向通过轴承安装有多个上滚筒(12)，所述上滚筒(12)上安装有多个移料托架(11)，所述移料托架(11)的顶面设有可让硅棒沿加热炉(5)长度方向放置的多组放置组件，所述加热炉(5)内沿其长度方向还安装有位于上滚筒(12)上方的多个加热管；

所述加热炉(5)的前端和后端均安装有竖直换料机构(4)，所述滚轴箱体(6)的前端安装有推料机构(2)。

2.根据权利要求1所述的一种连续式晶体硅高效应力释放设备，其特征在于：所述放置组件包括安装在移料托架(11)前部且相对设置的两个前硅块(15)和安装在移料托架(11)后部且相对设置的两个后硅块(17)，两个所述前硅块(15)和两个所述后硅块(17)间均留有放置间隙(16)；所述移料托架(11)的前端和后端均设有导渣斜面(112)，相邻两个所述移料托架(11)的导渣斜面(112)间构成积渣槽(113)，所述加热炉(5)的末端下部设有收集槽(51)。

3.根据权利要求2所述的一种连续式晶体硅高效应力释放设备，其特征在于：所述移料托架(11)的顶面沿其宽度方向开有位于前硅块(15)和后硅块(17)间的让位槽(111)，所述上料机构(3)包括旋转座(31)，所述旋转座(31)上安装有旋转组件，所述旋转组件上安装有竖直柱(32)，所述竖直柱(32)上沿其高度方向安装有竖直滑动组件，所述竖直滑动组件上安装有竖直滑台(310)，所述竖直滑台(310)上安装有水平滑动组件，所述水平滑动组件上安装有进料滑板(37)，所述进料滑板(37)的端部安装有可以位于让位槽(111)内的进料叉(36)。

4.根据权利要求3所述的一种连续式晶体硅高效应力释放设备，其特征在于：所述旋转组件包括安装在旋转座(31)顶面的旋转柱(312)和固定齿轮(315)，所述竖直柱(32)安装在旋转柱(312)上，所述固定齿轮(315)位于旋转柱(312)内，所述旋转柱(312)上安装有旋转电机(314)，所述旋转电机(314)的电机轴上安装有与固定齿轮(315)啮合的旋转齿轮(316)；所述竖直滑动组件包括安装在旋转柱(312)外侧且沿其高度方向设置的多个竖直滑轨(311)，所述旋转柱(312)的顶面安装有竖直电机(39)，所述竖直电机(39)的电机轴上安装有位于竖直方向的竖直丝杆(38)，所述竖直丝杆(38)的下端通过轴承与旋转柱(312)的下部连接，所述竖直丝杆(38)上通过竖直螺母与竖直滑台(310)连接，所述竖直滑台(310)上安装有与竖直滑轨(311)连接的竖直滑块；所述水平滑动组件包括安装在竖直滑台(310)顶面的多个水平滑块，所述进料滑板(37)的底面沿其长度方向安装有多个水平滑轨(313)，所述水平滑轨(313)与水平滑块连接，所述进料滑板(37)的底面沿其长度方向安装有齿条(35)，所述竖直滑台(310)上安装有水平电机(33)，所述水平电机(33)的电机轴上安装有与齿条(35)啮合的水平齿轮(34)。

5.根据权利要求1所述的一种连续式晶体硅高效应力释放设备，其特征在于：所述竖直换料机构(4)包括安装在加热炉(5)上的多个滚轴架(43)，所述滚轴架(43)上通过导轴法兰(44)安装有提升轴(45)，所述提升轴(45)上安装有支撑座(46)，所述支撑座(46)上安装有提升架(42)，所述提升架(42)的下端安装有多个位于水平方向的提升滚筒(41)，所述提升滚筒(41)可进入相邻两个所述下滚筒(13)间，所述加热炉(5)上还安装有与提升轴(45)连接的提升组件。