[实用新型]一种半导体废气处理装置有效

专利信息
申请号: 202122415492.9 申请日: 2021-10-08
公开(公告)号: CN216367350U 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: 杨春水;张坤;杨春涛 申请(专利权)人: 安徽京仪自动化装备技术有限公司
主分类号: B01D53/76 分类号: B01D53/76;B01D47/06
代理公司: 南京匠桥专利代理有限公司 32568 代理人: 王冰冰
地址: 241000 安徽省芜*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 废气 处理 装置
【说明书】:

实用新型提供了一种半导体废气处理装置,包括废气进气管路,所述处理装置还包括依次连接的反应腔、用于对反应腔排出的气体进行除尘降温的除尘降温机构、用于收集除尘降温机构排出水的水箱和用于将流经水箱并排出的废气进行喷淋二次处理的酸排筒,所述反应腔的进气口通过气体放大器与废气进气管路连接。本实用新型通过在反应腔的进气口处设置气体放大器,增加进气的流速,将废气内的粉尘带入到废气处理装置的反应腔内,使粉尘不易附着在进气口的内壁,进而使进气口不易堵塞。

技术领域

本实用新型涉及废气处理技术领域,尤其涉及一种半导体废气处理装置。

背景技术

在半导体制造、液晶面板制造中废气处理装置是很重要的一个附属设备,在芯片生产过程中,生产设备将过程中使用后的有毒有害气体排入废气处理装置。废气处理装置的进气口很容易发生堵塞,当前判定管路堵塞的手段是进气口的压力传感器,当检测到压力高时,设备产生报警提示。但并没有其他解决堵塞的手段。

实用新型内容

本实用新型旨在解决现有技术中存在的技术问题。为此,本实用新型提供一种半导体废气处理装置,目的是增加反应腔进气口流速,使进气口不易堵塞。

基于上述目的,本实用新型提供了一种半导体废气处理装置,包括废气进气管路,所述处理装置还包括依次连接的反应腔、用于对反应腔排出的气体进行除尘降温的除尘降温机构、用于收集除尘降温机构排出水的水箱和用于将流经水箱并排出的废气进行喷淋二次处理的酸排筒,所述反应腔的进气口通过气体放大器与废气进气管路连接。

所述处理装置还包括设于反应腔进气口的压力传感器和向气体放大器的输入端输送惰性气体的输气管路。

所述废气进气管路包括进气管、设于进气管上的第一开关阀和质量流量控制器,进气管的出气端通过气体放大器与反应腔的进气口连接。

所述处理装置还包括PLC,所述压力传感器、第一开关阀和质量流量控制器均与PLC电连接。

所述处理装置还包括设有显示人机界面的触摸屏,所述触摸屏与PLC电连接。

所述除尘降温机构包括洗涤塔,洗涤塔内设有第一喷头,通过设置第一喷淋液输送管路与第一喷头连接,所述反应腔的出气口与洗涤塔的进气口连接,所述洗涤塔的出口端与水箱的进口端连接,水箱的出口端与酸排筒的进口端连接。

所述酸排筒内设有第二喷头,通过设置第二喷淋液输送管路与第二喷头连接。

通过水泵将水箱内的水排出。

本实用新型的有益效果:本实用新型通过在反应腔的进气口处设置气体放大器,增加进气的流速,将废气内的粉尘带入到废气处理装置的反应腔内,使粉尘不易附着在进气口的内壁,进而使进气口不易堵塞。废气中的粉尘通过喷淋溶于水后通过水泵排出,延长设备的PM周期。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的结构示意图;

图2为本实用新型的PID控制图;

图3为本实用新型的控制流程图。

图中标记为:

1、废气进气管路;2、反应腔;3、洗涤塔;4、水箱;5、酸排筒;6、进气口;7、气体放大器;8、第一开关阀;9、质量流量控制器;10、第一喷头;11、第二开关阀;12、第二喷头;13、第三开关阀;14、压力传感器。

具体实施方式

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