[实用新型]一种用于半导体元件加工的清洗架

权利要求书

1.一种用于半导体元件加工的清洗架，包括清洗架本体(1)，其特征在于：所述清洗架本体(1)前侧靠近底部处开设有开口，所述清洗架本体(1)前侧设有与开口相匹配的开关门，所述开关门的左侧设有若干个合页，所述开关门通过若干个合页与清洗架本体(1)活动连接，且所述开关门前侧靠近右侧处固定连接有把手，所述清洗架本体(1)的底部靠近四角处均固定连接有支撑腿(2)，所述清洗架本体(1)的底部靠近中间位置处插接有阀门(3)，所述清洗架本体(1)的顶部靠近中间位置处固定连接有水箱(4)，所述水箱(4)的顶部插接有进水口，所述水箱(4)的右侧靠近底部处插接有软管(6)，所述软管(6)的外侧固定连接有水泵(5)，所述清洗架本体(1)的顶部靠近右侧处和清洗架本体(1)的右侧靠近顶部处均固定连接有安装板，所述软管(6)远离水箱(4)的一端贯穿相邻安装板和清洗架本体(1)的右侧壁，并固定连接有第一喷头，所述清洗架本体(1)的左侧靠近中间位置处固定连接有支撑板(20)，所述支撑板(20)的顶部固定连接有驱动电机(9)，所述驱动电机(9)的动力输出轴外侧套设有双槽轮(10)，所述清洗架本体(1)的左侧靠近底部处固定连接有风箱(22)，所述风箱(22)的顶部开设有若干个进风口，所述风箱(22)的顶部和支撑板(20)的底部均开设有第一通孔，所述风箱(22)内腔左侧中间位置处固定连接有第一轴承，所述第一轴承的内腔插接有转轴(25)，所述转轴(25)的外侧靠近中间位置处套设有第二单槽轮(23)，所述第二单槽轮(23)与双槽轮(10)之间设有第二皮带(21)，所述第二皮带(21)穿过相邻第一通孔内腔，所述双槽轮(10)与第二单槽轮(23)之间通过第二皮带(21)传动连接，所述转轴(25)的外侧靠近右端处固定连接有若干个扇叶，所述风箱(22)的底部靠近右侧处插接有L形管(24)，所述L形管(24)远离风箱(22)的一端贯穿清洗架本体(1)左侧壁，并固定连接有第二喷头，所述清洗架本体(1)内腔左右两侧靠近顶部处固定连接有限位板(7)，所述限位板(7)的顶部设有喷洒机构，所述清洗架本体(1)内腔靠近底部处设有夹持机构。

2.如权利要求1所述的一种用于半导体元件加工的清洗架，其特征在于：所述喷洒机构包括齿条板(8)，所述齿条板(8)位于限位板(7)的前侧，所述齿条板(8)的底部与第一喷头的顶部固定连接，所述齿条板(8)的后侧固定连接有第一滑块，所述限位板(7)的前侧开设有第一滑槽，所述第一滑块活动连接在第一滑槽的内腔，所述清洗架本体(1)内腔前后两侧均固定连接有两个第二轴承，若干个相邻所述第二轴承的内腔共同插接有转动轴(16)和转动杆(19)，所述转动轴(16)和转动杆(19)的外侧靠近中间位置处分别套设有主动齿轮(17)和半齿轮(18)，所述主动齿轮(17)和半齿轮(18)的底部均与齿条板(8)的顶部相互啮合，所述转动轴(16)的外侧靠近前端处套设有第二锥形齿轮(15)。

3.如权利要求2所述的一种用于半导体元件加工的清洗架，其特征在于：所述第二锥形齿轮(15)的左侧啮合有第一锥形齿轮(14)，所述第一锥形齿轮(14)左侧圆心处固定连接有横杆(13)，所述清洗架本体(1)内腔左侧靠近顶部处固定连接有第三轴承，所述横杆(13)的左端贯穿第三轴承的内腔，并固连接有第一单槽轮(12)。

4.如权利要求3所述的一种用于半导体元件加工的清洗架，其特征在于：所述第一单槽轮(12)与双槽轮(10)之间设有第一皮带(11)，所述第一单槽轮(12)与双槽轮(10)之间通过第一皮带(11)传动连接。

5.如权利要求1所述的一种用于半导体元件加工的清洗架，其特征在于：所述夹持机构包括两个C形板(35)，两个所述C形板(35)均位于清洗架本体(1)内腔靠近底部处，两个所述C形板(35)相远离的一侧均固定连接有直杆(36)，所述清洗架本体(1)内腔左右两侧靠近底部处均固定连接有第四轴承，位于左侧所述直杆(36)插接在相邻第四轴承的内腔，位于右侧所述直杆(36)贯穿相邻第四轴承的内腔，并固定连接有第一手摇轮，两个所述C形板(35)的顶部均固定连接有螺纹套(33)。