[实用新型]一种用于半导体元件加工的清洗架有效

专利信息
申请号: 202122451437.5 申请日: 2021-10-12
公开(公告)号: CN216359207U 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 李顺 申请(专利权)人: 李顺
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B13/00;H01L21/687
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 830000 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐市*** 国省代码: 新疆;65
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 半导体 元件 加工 清洗
【说明书】:

实用新型公开了一种用于半导体元件加工的清洗架,包括清洗架本体,所述清洗架本体前侧靠近底部处开设有开口,所述清洗架本体前侧设有与开口相匹配的开关门,所述开关门的左侧设有若干个合页,通过设置喷洒机构,通过齿条板、横杆、第一锥形齿轮、第二锥形齿轮、转动轴、主动齿轮、半齿轮和转动杆这些部件的相互配合对半导体元件进行往复清洗,增强了清洗效果,提高了工作效率,通过设置夹持机构,通过移动板、固定板、竖杆、弹簧、拉环、螺纹杆、螺纹套、活动板、C形板和直杆这些部件的相互配合对半导体清洗时进行夹持,提高了夹持的稳定性,避免夹持不稳定导致半导体元件脱落,造成半导体元件损坏。

技术领域

本实用新型涉及半导体元件清洗领域,尤其涉及一种用于半导体元件加工的清洗架。

背景技术

半导体元件是导电性介于良导电体与绝缘体之间,利用半导体材料特殊电特性来完成特定功能的电子器件,可用来产生、控制、接收、变换、放大信号和进行能量转换。

半导体的生产工序众多,其中就包括半导体元件的清洗装置,现有的半导体元件清洗装置均是将半导体放入放置盒内在进行清洗,由于放置盒一直处于静止状态,这样就会导致位于清洗喷头一面的半导体清洗干净,而另一面的半导体还是未清洗干净,清洗效果差,大大降低清洗效率,以及半导体元件清洗因夹持不稳定,从而导致半导体元件脱落,从而导致半导体元件损坏,造成不必要的损失。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足,本实用新型的目的之一在于提供一种用于半导体元件加工的清洗架。

本实用新型的目的之一采用如下技术方案实现:

一种用于半导体元件加工的清洗架,包括清洗架本体,所述清洗架本体前侧靠近底部处开设有开口,所述清洗架本体前侧设有与开口相匹配的开关门,所述开关门的左侧设有若干个合页,所述开关门通过若干个合页与清洗架本体活动连接,且所述开关门前侧靠近右侧处固定连接有把手,所述清洗架本体的底部靠近四角处均固定连接有支撑腿,所述清洗架本体的底部靠近中间位置处插接有阀门,所述清洗架本体的顶部靠近中间位置处固定连接有水箱,所述水箱的顶部插接有进水口,所述水箱的右侧靠近底部处插接有软管,所述软管的外侧固定连接有水泵,所述清洗架本体的顶部靠近右侧处和清洗架本体的右侧靠近顶部处均固定连接有安装板,所述软管远离水箱的一端贯穿相邻安装板和清洗架本体的右侧壁,并固定连接有第一喷头,所述清洗架本体的左侧靠近中间位置处固定连接有支撑板,所述支撑板的顶部固定连接有驱动电机,所述驱动电机的动力输出轴外侧套设有双槽轮,所述清洗架本体的左侧靠近底部处固定连接有风箱,所述风箱的顶部开设有若干个进风口,所述风箱的顶部和支撑板的底部均开设有第一通孔,所述风箱内腔左侧中间位置处固定连接有第一轴承,所述第一轴承的内腔插接有转轴,所述转轴的外侧靠近中间位置处套设有第二单槽轮,所述第二单槽轮与双槽轮之间设有第二皮带,所述第二皮带穿过相邻第一通孔内腔,所述双槽轮与第二单槽轮之间通过第二皮带传动连接,所述转轴的外侧靠近右端处固定连接有若干个扇叶,所述风箱的底部靠近右侧处插接有L形管,所述L形管远离风箱的一端贯穿清洗架本体左侧壁,并固定连接有第二喷头,所述清洗架本体内腔左右两侧靠近顶部处固定连接有限位板,所述限位板的顶部设有喷洒机构,所述清洗架本体内腔靠近底部处设有夹持机构。

进一步的,所述喷洒机构包括齿条板,所述齿条板位于限位板的前侧,所述齿条板的底部与第一喷头的顶部固定连接,所述齿条板的后侧固定连接有第一滑块,所述限位板的前侧开设有第一滑槽,所述第一滑块活动连接在第一滑槽的内腔,所述清洗架本体内腔前后两侧均固定连接有两个第二轴承,若干个相邻所述第二轴承的内腔共同插接有转动轴和转动杆,所述转动轴和转动杆的外侧靠近中间位置处分别套设有主动齿轮和半齿轮,所述主动齿轮和半齿轮的底部均与齿条板的顶部相互啮合,所述转动轴的外侧靠近前端处套设有第二锥形齿轮。

进一步的,所述第二锥形齿轮的左侧啮合有第一锥形齿轮,所述第一锥形齿轮左侧圆心处固定连接有横杆,所述清洗架本体内腔左侧靠近顶部处固定连接有第三轴承,所述横杆的左端贯穿第三轴承的内腔,并固连接有第一单槽轮。

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