[实用新型]一种X射线荧光光谱分析玻璃熔片的冷却装置有效
申请号: | 202122577522.6 | 申请日: | 2021-10-25 |
公开(公告)号: | CN216285005U | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 许超;陈宁娜 | 申请(专利权)人: | 中冶武汉冶金建筑研究院有限公司;中国一冶集团有限公司 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 陶洪 |
地址: | 430080 湖北省武汉*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 射线 荧光 光谱分析 玻璃 冷却 装置 | ||
一种X射线荧光光谱分析玻璃熔片的冷却装置,涉及冷却装置领域。该X射线荧光光谱分析玻璃熔片的冷却装置包括顶面设有容纳槽的底座及一侧与底座侧部铰接的盖板,容纳槽内设有散热板,盖板转动时开闭容纳槽,盖板靠近容纳槽的一侧表面设有至少一个散热风扇,容纳槽内设有温度传感器,底座的一端外壁设有用于显示温度传感器检测温度的显示屏。本实施例提供的X射线荧光光谱分析玻璃熔片的冷却装置能够快速冷却玻璃熔片,并避免玻璃熔片受到外部污染。
技术领域
本申请涉及冷却装置领域,具体而言,涉及一种X射线荧光光谱分析玻璃熔片的冷却装置。
背景技术
X射线荧光光谱分析中常将样品熔解在熔化的熔剂中形成易于分析的玻璃熔片化合物,但是由于形成的玻璃熔片的自然冷却时间较长,而且在自然冷却过程中玻璃熔片容易被污染,影响X射线荧光光谱分析的效率和准确性。
因此,需要一种能够快速冷却玻璃熔片并避免受到外部污染的装置。
实用新型内容
本申请的目的在于提供一种X射线荧光光谱分析玻璃熔片的冷却装置,其能够快速冷却玻璃熔片,并避免玻璃熔片受到外部污染。
本申请的实施例是这样实现的:
本申请实施例提供一种X射线荧光光谱分析玻璃熔片的冷却装置,其包括顶面设有容纳槽的底座及一侧与底座侧部铰接的盖板,容纳槽内设有散热板,盖板转动时开闭容纳槽,盖板靠近容纳槽的一侧表面设有至少一个散热风扇,容纳槽内设有温度传感器,底座的一端外壁设有用于显示温度传感器检测温度的显示屏。
在一些可选的实施方案中,底座的底面凹陷形成散热槽,底座还开设有至少一个连通容纳槽和散热槽的散热孔。
在一些可选的实施方案中,散热槽的至少一端连通底座的端面。
在一些可选的实施方案中,散热孔内设有过滤网。
在一些可选的实施方案中,散热孔设于散热板的下方。
在一些可选的实施方案中,散热孔的中部向一侧弯折形成弯折部。
在一些可选的实施方案中,散热板可升降的设于容纳槽内。
在一些可选的实施方案中,散热槽设有通过螺纹贯穿至容纳槽的调节螺栓,调节螺栓的顶部可旋转地连接于散热板底部。
本申请的有益效果是:本实施例提供的X射线荧光光谱分析玻璃熔片的冷却装置包括顶面设有容纳槽的底座及一侧与底座侧部铰接的盖板,容纳槽内设有散热板,盖板转动时开闭容纳槽,盖板靠近容纳槽的一侧表面设有至少一个散热风扇,容纳槽内设有温度传感器,底座的一端外壁设有用于显示温度传感器检测温度的显示屏。本实施例提供的X射线荧光光谱分析玻璃熔片的冷却装置能够快速冷却玻璃熔片,并避免玻璃熔片受到外部污染。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本申请实施例1提供的X射线荧光光谱分析玻璃熔片的冷却装置的结构示意图;
图2为本申请实施例2提供的X射线荧光光谱分析玻璃熔片的冷却装置中底座的剖视结构示意图。
图中:100、底座;110、容纳槽;120、盖板;130、散热板;140、散热风扇;150、温度传感器;160、显示屏;170、散热槽;180、散热孔;181、弯折部;190、过滤网;200、调节螺栓。
具体实施方式
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