[实用新型]气浴装置及温度测量系统

说明书

本实用新型属于光刻机技术领域，公开了一种气浴装置及温度测量系统。其中，气浴装置包括：盒体，所述盒体的内部设有气浴腔；以及喷嘴，所述喷嘴沿X轴方向延伸，多个所述喷嘴沿Y轴方向依次排列，相邻两个所述喷嘴之间形成沿X轴方向延伸的流道，所述喷嘴的上端连通所述气浴腔、下端沿X轴方向设有若干个出风孔，所述喷嘴沿Y轴方向的宽度从其上端向其下端逐渐减小。气体从气浴腔流经各喷嘴后吹扫物料，喷嘴缩短了气浴腔和物料之间的间距，同时经过逐渐收窄的喷嘴能够提高吹扫速率并降低均匀温差，之后扩散至流道中排出，避免对物料二次热污染。

技术领域

本实用新型涉及光刻机技术领域，尤其涉及一种气浴装置及温度测量系统。

背景技术

随着平板显示行业对分辨率要求越来越高，要求光刻机套刻和TP精度越来越高。温度是影响光刻机overlay和TP一个重要因素，其中涉及温度测量技术和温度控制技术。平板显示行业的物料主要是玻璃，下文中以玻璃代替物料。玻璃在进入光刻机之前需要经过track前段清洗、涂胶、烘烤等工艺，所以玻璃在进入光刻机之前需要温度控制，实现玻璃的温度和光刻机的温度chuck的温度相一致，这样才能保证曝光出来的产品满足性能要求。

目前产品上使用技术为离线标定技术，即通过多次曝光测量验证，前段控制的温度和时间，形成固有模式，相同产品就按照相同的温度及温控时间去控制。更换产品需要重新曝光和测量，且没有实现系统闭环。

图8是现有技术中对玻璃进行温度控制的示意图，玻璃1020进入光刻机前经过气浴装置1010吹扫实现强制温控，产线上一般设置固定时长，例如30秒至50秒不等，强制温控后进入曝光机1040，并与chuck1030进行交接后实现对准曝光等工序。现有技术中，气浴装置1010的出风部分设置为一块网孔板，通过网孔板提高出风口的风速以及保证出风均匀温差。

一般track线前段到曝光机1040之前玻璃1020的温度控制在23±1℃，而随着overlay和TP需求增高，要求进入曝光机1040的玻璃要控制在23±0.1℃甚至更高精度。经过测试，玻璃1020由23±1℃控制到23±0.1℃需要25s时间，最低温度为23.005℃，最高温度为23.065℃，均匀温差达到0.06℃。然而，目前25秒的降温过程仍较长，且均匀温差较大，需要进一步降低降温时长以及均匀温差。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种气浴装置及温度测量系统，以进一步降低降温时长以及均匀温差。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一方面，一种气浴装置，包括：盒体，所述盒体的内部设有气浴腔；以及

喷嘴，所述喷嘴沿X轴方向延伸，多个所述喷嘴沿Y轴方向依次排列，相邻两个所述喷嘴之间形成沿X轴方向延伸的流道，所述喷嘴的上端连通所述气浴腔、下端沿X轴方向设有若干个出风孔，所述喷嘴沿Y轴方向的宽度从其上端向其下端逐渐减小。

气体从气浴腔流经各喷嘴后吹扫物料，喷嘴缩短了气浴腔和物料之间的间距，同时经过逐渐收窄的喷嘴能够提高吹扫速率并降低均匀温差，之后扩散至流道中排出，避免对物料二次热污染。

作为上述气浴装置的优选方案，所述喷嘴的Y轴方向的两个侧壁呈轴对称的弧形。

呈弧形结构的喷嘴具有弧面的侧壁，有利于吹扫后的气体向上聚拢并及时排除，且喷嘴的Y轴方向的两个侧壁呈轴对称的弧形，使得流道呈对称结构，相邻两个喷嘴的气体受到对应侧的侧壁的导向作用相同，进一步减小对物料二次热污染。

作为上述气浴装置的优选方案，各相邻两个所述喷嘴沿Y轴方向的间距均相同。

各相邻两个喷嘴沿Y轴方向的间距均相同，使得每条流道的宽度相同，降低均匀温差。

作为上述气浴装置的优选方案，相邻两个所述喷嘴中的一个的各所述出风孔与另一个的各所述出风孔沿Y轴方向一一对置。