[实用新型]一种MOCVD设备的尾气处理装置有效

专利信息
申请号: 202122707794.3 申请日: 2021-11-08
公开(公告)号: CN216259942U 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 赵迎春;熊敏;董旭 申请(专利权)人: 苏州镓港半导体有限公司
主分类号: B01D53/18 分类号: B01D53/18;B01D53/78;B01D53/75
代理公司: 苏州启华专利代理事务所(普通合伙) 32357 代理人: 徐伟华
地址: 215600 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 mocvd 设备 尾气 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种MOCVD设备的尾气处理装置,其特征在于,包括密封的装置本体、尾气进口管及尾气出口管,所述装置本体的内腔被分隔成相对独立的缓冲腔和处理腔,所述装置本体的外部连接有向处理腔内注液的洗液加注控制系统,所述处理腔包括三个处理室,分别为依次设置的一级处理室、二级处理室及三级处理室,所述尾气进口管插设在缓冲腔内,所述尾气出口管的一端接入三级处理室内,尾气出口管上安装有排气泵,一级处理室与二级处理室相对独立,二级处理室与三级处理室的底部连通,三个处理室内均设置有多层格栅,每个处理室内的多层格栅的孔径由下至上递减,所述尾气处理装置还包括连通管Ⅰ、连通管Ⅱ及连通管Ⅲ,所述连通管Ⅰ用于将缓冲腔内的尾气导入到一级处理室的洗液中;连通管Ⅱ用于将经一级处理室处理后的尾气导入到二级处理室的洗液中;连通管Ⅲ用于将经二级处理室处理后的尾气导入到三级处理室的洗液中,所述尾气处理装置还包括安装在所述装置本体内且能延伸出装置本体外的排液管,所述缓冲腔、一级处理室、二级处理室及三级处理室的底部均设置有与排液管连通的排液阀。

2.根据权利要求1所述的MOCVD设备的尾气处理装置,其特征在于,所述一级处理室、二级处理室及三级处理室中的格栅均为蜂巢状格栅。

3.根据权利要求2所述的MOCVD设备的尾气处理装置,其特征在于,所述一级处理室内的格栅有四层,每层格栅的孔径均在5-50mm间,每层格栅的厚度在1-10mm间,上下相邻两层格栅间的间距在10-500mm间,由下至上,四层格栅孔径的递减值范围在1-50mm间。

4.根据权利要求2所述的MOCVD设备的尾气处理装置,其特征在于,所述二级处理室和三级处理室内的格栅均有四层,每层格栅的孔径均在1-10mm间,每层格栅的厚度在1-10mm间,上下相邻两层格栅间的间距在10-500mm,由下至上,四层格栅孔径的递减值范围在1-5mm。

5.根据权利要求1所述的MOCVD设备的尾气处理装置,其特征在于,所述缓冲腔、一级处理室、二级处理室及三级处理室的底部均呈V型槽结构。

6.根据权利要求1所述的MOCVD设备的尾气处理装置,其特征在于,所述一级处理室和三级处理室内安装有与洗液加注控制系统相连的加液管,所述一级处理室及三级处理室内还安装有用于监测洗液液位和pH的传感器,所述传感器与洗液加注控制系统通讯连接。

7.根据权利要求1所述的MOCVD设备的尾气处理装置,其特征在于,所述连通管Ⅰ、连通管Ⅱ及连通管Ⅲ上两端的管口中至少伸入洗液中的一端管口采用了喷淋状管口。

8.根据权利要求1所述的MOCVD设备的尾气处理装置,其特征在于,所述尾气处理装置还包括安装在装置本体外、向缓冲腔及处理腔内充氮气的氮气管。

9.根据权利要求1所述的MOCVD设备的尾气处理装置,其特征在于,所述排液管上还设置有逆止阀。

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