[实用新型]多回转中心自转镀膜转架

说明书

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，提出了多回转中心自转镀膜转架，包括用于设置在镀膜室上的回转机构和设置在回转机构上的自主轴，回转机构包括驱动件和公转盘，自主轴设置公转盘上，跟随公转盘转动，回转机构还包括自转动轮和固定轮，自转动轮设置在自主轴上，固定轮设置在镀膜室内，通过固定轮和自转动轮配合，自转动轮带动自主轴自转。通过上述技术方案，解决了现有技术中的回转机构回转中心转动和镀膜不均匀问题。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体的，涉及多回转中心自转镀膜转架。

背景技术

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。镀件镀膜时，镀件跟随回转结构进行转动，然后在镀件上形成一层薄膜。

现有技术中，回转机构是带动镀件围绕回转中心旋转，且只有一个回转中心，镀件一直保持一种方向，这样就造成了在镀膜时镀件靠近喷射口的一面镀层较厚，远离喷射口的一面镀层较薄，最后形成的镀膜不均匀。

实用新型内容

本实用新型提出多回转中心自转镀膜转架，解决了相关技术中的镀件只能围绕回转机构回转中心转动和镀膜不均匀问题。

本实用新型的技术方案如下：

多回转中心自转镀膜转架，包括用于设置在镀膜室上的回转机构和设置在所述回转机构上的自主轴，所述回转机构包括驱动件和公转盘，所述自主轴设置在所述公转盘上，跟随所述公转盘转动，所述回转机构还包括

自转动轮，设置在所述自主轴上，

固定轮，设置在所述镀膜室内，通过所述固定轮和所述自转动轮配合，所述自转动轮带动所述自主轴自转。

作为进一步的技术方案，所述自转动轮和所述固定轮位于所述公转盘上方，所述公转盘的主轴穿过所述固定轮，所述自转动轮和所述固定轮相互啮合。

作为进一步的技术方案，还包括

固定件，设置在所述镀膜室上，所述固定轮通过所述固定件设置在所述镀膜室内，所述主轴穿过所述固定件。

作为进一步的技术方案，所述固定轮具有两层，上层为大轮，下层为小轮，所述自转动轮分层布置，与所述大轮和所述小轮分别对应布置。

作为进一步的技术方案，还包括

从动轮，设置在所述主轴上，

主动轮，设置在所述驱动件驱动端，所述主动轮与所述从动轮啮合配合，所述驱动件通过所述主动轮与所述从动轮带动所述主轴转动。

作为进一步的技术方案，还包括

屏蔽罩，通过紧固件固定在所述公转盘上，所述公转盘位于所述屏蔽罩内，所述自主轴穿过所述屏蔽罩。

作为进一步的技术方案，所述屏蔽罩为多块屏蔽板组成，所述屏蔽板通过所述紧固件固定在所述公转盘上，所述屏蔽板具有半圆槽，每两个所述屏蔽板组成一个通孔，所述自主轴穿过所述通孔。

本实用新型的工作原理及有益效果为：

真空镀膜时在真空状态下在镀件上镀上一层薄膜，现有技术中镀件跟随回转机构在镀膜室内旋转，工作气体通过电离布满整个镀膜室内，在镀件上形成一层镀膜，因为镀件只能跟随回转机构围绕回转中心转动，远离回转中心的一些镀膜厚度比靠近回转中心的一侧后，造成镀膜不均匀。