[实用新型]一种实验室用可升降调节的靶装置有效

专利信息
申请号: 202122789734.0 申请日: 2021-11-15
公开(公告)号: CN216237256U 公开(公告)日: 2022-04-08
发明(设计)人: 赵海燕;李超;赵文彪 申请(专利权)人: 沈阳富士设备设计有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 北京哌智科创知识产权代理事务所(普通合伙) 11745 代理人: 齐丽娜
地址: 110000 辽宁省沈阳*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 实验室 升降 调节 装置
【说明书】:

实用新型涉及镀膜技术领域,公开了一种实验室用可升降调节的靶装置,包括固定安装于机体上的固定底座、固定安装于固定底座上方的真空腔、设于真空腔内部的支撑套和固定安装于支撑套上的靶材,所述支撑套内部固定安装有安装座,所述机体内腔下端部通过轴承连接有传动螺杆,所述传动螺杆下端部固定套接有第一齿轮,所述机体内腔右侧安装有伺服电机,所述伺服电机输出轴上固定套接有第二齿轮,所述支撑套外侧呈环形均匀设有限位件。本实用新型通过设置第一齿轮、第二齿轮、传动螺杆、支撑套、安装座和限位件,实现自动对靶材的高度调节,使得氩离子轰击靶材的距离发生变化,改变了靶材原子的溅射效果,自动化程度高。

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术技术领域,具体为一种实验室用可升降调节的靶装置。

背景技术

伴随着生产以及科研的发展和需要,超高真空系统技术以及发展成了一门热门技术。比如其在磁控溅射镀膜仪上的运用,磁控溅射镀膜仪是一种用于化学、材料科学、冶金工程技术、物理学领域的工艺试验仪器,可以制备纳米磁性薄膜,能加热。其通过电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径,改变电子的运动方向,提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片,真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿。其通过更换不同的靶材(金、铂、铱、银、铜等),以达到更细颗粒的涂层。同时通过智能的人机界面精确、简单、方便控制仪器,同时具有估算镀层厚度,实时显示真空度,溅射电流,设定溅射时间以及靶材的剩余情况。

靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应。现有的带有靶材的靶装置,对于其高度的调节不便,无法根据实际需要,改变其溅射效果。为此,我们提出一种实验室用可升降调节的靶装置。

实用新型内容

针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种实验室用可升降调节的靶装置,解决了上述背景技术中存在的问题。

本实用新型提供一种实验室用可升降调节的靶装置,包括固定安装于机体上的固定底座、固定安装于固定底座上方的真空腔、设于真空腔内部的支撑套和固定安装于支撑套上的靶材,所述支撑套内部固定安装有安装座,所述机体内腔下端部通过轴承连接有传动螺杆,所述传动螺杆下端部固定套接有第一齿轮,所述机体内腔右侧安装有伺服电机,所述伺服电机输出轴上固定套接有第二齿轮,所述支撑套外侧呈环形均匀设有限位件。

优选的,所述第一齿轮和第二齿轮啮合,且第一齿轮和第二齿轮的中心线相互垂直。

优选的,所述限位件包括呈“L”字形的支架和导杆,所述限位件固定安装于机体上,所述导杆穿过支撑套。

优选的,所述支撑套和传动螺杆中心共线。

优选的,所述支撑套和机体之间设有密封圈。

优选的,所述支撑套呈倒“T”字形,所述支撑套下端部呈开口。

优选的,所述安装座与传动螺杆通过螺纹连接,所述传动螺杆上端部设有限位块。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该实验室用可升降调节的靶装置,通过设置第一齿轮、第二齿轮、传动螺杆、支撑套、安装座和限位件,在伺服电机作用下,通过第一齿轮和第二齿轮的啮合作用,能够使得传动螺杆旋转,由于传动螺杆与安装座的螺纹连接方式,能够使得固定安装于安装座外侧的支撑套上下运动,实现自动对靶材的高度调节,使得氩离子轰击靶材的距离发生变化,改变了靶材原子的溅射效果,自动化程度高,调节方便,可以根据需要调整镀膜效果,适用范围广。

附图说明

图1为本实用新型结构的局部剖视示意图;

图2为本实用新型结构的主视局部示意图;

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