[实用新型]硅片搬运系统

权利要求书

1.一种硅片搬运系统，其特征在于，包括：

前工序载板，具有多个载板槽，用于承载硅片；

后工序载板，具有贯穿其厚度方向的多个载板孔，所述载板孔用于承载所述硅片；

搬运装置，所述搬运装置包括移载机构和安装于所述移载机构的第一吸持件，所述第一吸持件用于吸持或释放所述硅片，所述移载机构用于驱动所述第一吸持件在所述载板槽的上方和所述载板孔的上方往返运动；以及

升降台，所述升降台上安装有能够穿过所述载板孔的第二吸持件，所述升降台能够带动所述第二吸持件升降，所述第二吸持件被配置成用于吸持在所述载板孔的上方的硅片并将硅片置于载板孔。

2.根据权利要求1所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述第二吸持件被配置成在所述第一吸持件移动至所述载板孔的上方时上升以吸持所述硅片，并能够在所述第一吸持件释放所述硅片后下降以将所述硅片置于所述载板孔。

3.根据权利要求1所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述移载机构包括横移搬运模组和安装于所述横移搬运模组的升降模组，所述第一吸持件安装于所述升降模组，所述横移搬运模组能够带动所述升降模组做直线往复运动。

4.根据权利要求3所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述升降模组包括有多个升降件，每个所述升降件均安装有所述第一吸持件，所述前工序载板具有多排用于承载所述硅片的载板槽，多个所述第一吸持件能够吸持至少一排所述载板槽中的硅片。

5.根据权利要求4所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述横移搬运模组上安装有驱动机构，所述升降件与所述横移搬运模组可滑动地连接，所述驱动机构用于驱动多个所述升降件沿所述横移搬运模组的长度方向运动以调节相邻两个所述升降件的距离。

6.根据权利要求1～5任一项所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述硅片搬运系统还包括硅片定位识别系统和控制器；所述硅片定位识别系统设于所述升降台的上方，用于获取所述第二吸持件吸持的所述硅片的横向位置，并将所述横向位置信息传递给所述控制器；所述控制器根据所述横向位置信息能够控制所述升降台沿横向运动以将所述第二吸持件吸持的所述硅片对准所述载板孔，并能够控制所述升降台沿竖向运动以将所述第二吸持件吸持的所述硅片放置于所述载板孔。

7.根据权利要求6所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述载板孔设置有多排，一排所述载板孔中的每个所述载板孔对应设置一个所述升降台，每个所述升降台能够独立进行横向运动。

8.根据权利要求6所述的硅片搬运系统，其特征在于，每个所述升降台包括第一驱动件、第二驱动件和第三驱动件，所述第三驱动件被构造成驱动所述第二吸持件沿第一预设方向运动，所述第二驱动件被构造成驱动所述第三驱动件沿第二预设方向运动，所述第一驱动件被构造成驱动所述第二驱动件沿第三预设方向运动，所述第一预设方向、所述第二预设方向和所述第三预设方向中的任一者为X方向，另一者为Y方向，余下的一者为Z方向。

9.根据权利要求1～5任一项所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述硅片搬运系统还包括用于传输所述前工序载板的第一传输机构，所述第一传输机构用于将承载有硅片的所述前工序载板传输至所述第一吸持件的行程区域的下方，并能够将硅片被吸持后的所述前工序载板传输至所述第一吸持件的行程区域外。

10.根据权利要求9所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述第一传输机构呈L型设置，所述第一传输机构具有沿传输方向依次设置的第一工位、第二工位和第三工位，所述第一吸持件能够在所述第二工位吸持硅片。

11.根据权利要求1～5任一项所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述硅片搬运系统还包括用于传输所述后工序载板的第二传输机构，所述第二传输机构用于将所述后工序载板传输至所述第一吸持件的行程区域的下方以承接所述硅片，并能够将承接有所述硅片的所述后工序载板传输至所述第一吸持件的行程区域外。

12.根据权利要求11所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述第二传输机构呈L型设置，所述第二传输机构具有沿传输方向依次设置的第四工位、第五工位和第六工位，所述第二吸持件能够在所述第五工位吸持硅片。