[实用新型]一种晶圆表面清洗机构

权利要求书

1.一种晶圆表面清洗机构，其特征在于，包括抛光槽和清洗槽、以及晶舟盒，所述抛光槽和清洗槽顶部均设有置入口，所述晶舟盒从置入口进入对应的抛光槽或者清洗槽，所述晶舟盒的盒体内设有若干个间隔摆放的置入槽，所述晶舟盒的盒体的前端部侧壁和后端部侧壁的顶部均设有固定件；固定件之间设有手把部；晶圆间隔摆放于晶舟盒的置入槽中；所述抛光槽和清洗槽的底部均设有顶出部，藉由顶出部使得晶舟盒放置时能依据设定角度稳定放置。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆表面清洗机构，其特征在于，晶舟盒为铁氟龙晶舟盒。

3.根据权利要求1所述的一种晶圆表面清洗机构，其特征在于，晶舟盒内可放晶圆尺寸为4in、5in、6in、8in与12in。

4.根据权利要求1所述的一种晶圆表面清洗机构，其特征在于，晶舟盒内所置放的晶圆片数依据清洗要求不同而置放。

5.根据权利要求1所述的一种晶圆表面清洗机构，其特征在于，清洗槽内所使用的清洗液为纯水。

6.根据权利要求5所述的一种晶圆表面清洗机构，其特征在于，清洗槽运转的纯水阻值至少为1MΩ以上。

7.根据权利要求1所述的一种晶圆表面清洗机构，其特征在于，抛光槽和清洗槽均设有对应的清洗区，并且清洗区内设有一个顶出部可供置入的晶舟盒放置。

8.根据权利要求7所述的一种晶圆表面清洗机构，其特征在于，所述顶出部设有一个承载面，该承载面底部设有一个调节件可供承载面依据需求调整置入晶舟盒的倾斜角度。

9.根据权利要求8所述的一种晶圆表面清洗机构，其特征在于，顶出部的角度设定为使晶圆的贴胶面倚靠晶舟盒前端部的方向；晶圆间隔放置且最靠近端部的晶圆为晶圆样品。