[实用新型]一种真空镀膜机用蒸发装置

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜机用蒸发装置，属于真空镀膜机技术领域，包括安装在支撑台上的蒸发平台，所述蒸发平台侧边通过铰链铰接有多个用于放置蒸发舟的置物架，且所述置物架的底部通过支撑杆与所述支撑台连接，所述蒸发平台由升降气缸控制上下移动，在所述蒸发平台下降时带动所述置物架向着所述蒸发平台倾斜，使所述蒸发舟根据自身重力移动到所述蒸发平台上进行内部基材的蒸发。通过蒸发平台铰接多个置物架可同时摆放多种基材，增加镀膜多样性，在需要对基材蒸发时，只需控制相应蒸发舟移动到蒸发平台上进行蒸发即可满足对应基材的镀膜，而位于置物架上的其他蒸发舟不蒸发，不会干扰镀膜。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，特别涉及一种真空镀膜机用蒸发装置。

背景技术

近年来，随着光学薄膜技术以及半导体科技的发展，真空镀膜技术在生产中的应用也越来越广泛与重要。真空蒸镀是最普遍、应用最广的真空镀膜工艺，真空蒸镀的物理过程包括：沉积材料蒸发或升华为气态粒子→气态粒子快速从蒸发源向基片表面输送→气态粒子附着在基片表面形核、长大成固体薄膜→薄膜原子重构或产生化学键合。蒸发源是真空镀膜设备最为关键的部件，根据加热方式的不同，蒸发源可以分为电子束加热蒸发源和电阻加热式蒸发源。

传统的蒸发装置虽然也存在带有多个蒸发舟的转台，但是需要通过电机驱动转动来选择蒸发舟，该方式的结构复杂，成本较高，并且蒸发舟大多偏离转台中心，因此蒸发出来的基材气态粒子不能完全接触到待镀膜基片，因此容易造成基材浪费。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述真空镀膜机的蒸发装置容易造成基材浪费，切换蒸发舟所需要的结构比较复杂的问题而提供一种真空镀膜机用蒸发装置，具有结构简单，适合多种类基材的镀膜，蒸发平台位于正中心减少基材浪费的优点。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的，一种真空镀膜机用蒸发装置，包括安装在支撑台上的蒸发平台，所述蒸发平台侧边通过铰链铰接有多个用于放置蒸发舟的置物架，且所述置物架的底部通过支撑杆与所述支撑台连接，所述蒸发平台由升降气缸控制上下移动，在所述蒸发平台下降时带动所述置物架向着所述蒸发平台倾斜，使所述蒸发舟根据自身重力移动到所述蒸发平台上进行内部基材的蒸发。

优选的，所述蒸发平台为圆盘结构，置物架圆周分布在蒸发平台侧边。

优选的，所述置物架的顶部安装有用于遮盖蒸发舟的盖板，置物架顶部设置滑轨，盖板通过滑轨滑动连接置物架。

优选的，所述蒸发舟包括舟体，舟体的内部安装有电阻板，电阻板的正负极通过导电柱伸出舟体底部，蒸发平台的表面设置有电极触点，电极触点与蒸发平台底部安装的电源模块电性连接。

优选的，所述蒸发平台的表面设置有定位磁片，蒸发舟的底部安装有磁铁环，定位磁片与磁铁环磁性吸附。

优选的，所述置物架的端部通过弹簧连接蒸发舟，利用弹簧弹力可将蒸发平台上的蒸发舟拉回置物架，置物架上还设置有定位电磁铁，定位电磁铁通电时与磁铁环磁性吸附。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、通过蒸发平台铰接多个置物架可同时摆放多种基材，增加镀膜多样性，在需要对基材蒸发时，只需控制相应蒸发舟移动到蒸发平台上进行蒸发即可满足对应基材的镀膜，而位于置物架上的其他蒸发舟不蒸发，不会干扰镀膜。

2、通过在蒸发舟底部设置磁铁环，利用定位电磁铁吸附蒸发舟滞留在置物架上，当需要某一基材镀膜时，只需关闭相应置物架上的定位电磁铁，该置物架上的蒸发舟便可移动到蒸发平台进行基材蒸发，选择更加方便，不易出错。

附图说明

图1为本实用新型的放置架分布结构示意图。

图2为本实用新型的蒸发舟移动到蒸发平台上的状态示意图。

图3为本实用新型的蒸发舟结构示意图。