[实用新型]一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构

说明书

本实用新型公开一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，涉及半导体设备领域。一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，包括水平移动臂，所述水平移动臂的一侧设置有伸缩臂旋转机构，所述伸缩臂旋转机构的顶部设置有伸缩臂；该实用新型，通过真空吸盘、水平移动臂、伸缩臂、组合喷嘴、伸缩臂旋转机构，真空吸盘吸附圆形或方形基板旋转和精准定位，组合喷嘴安装在伸缩臂上，可沿伸缩臂移动，伸缩臂旋转机构带动伸缩臂在工作范围内旋转，伸缩臂安装在水平移动臂上，伸缩臂可整体在水平方向移动，采用基板旋转，喷嘴固定和基板固定，喷嘴移动的方式进行基本边缘清洗，既可以清洗圆形晶圆，又可以清洗带平边晶圆或者方形基板。

技术领域

本实用新型涉及单片非圆形基板技术领域，具体为一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构。

背景技术

晶圆加工过程中，涂胶是一步重要的工艺过程，现在通常采用的涂胶方式是旋转涂布，在电机主轴上安装有真空吸盘，晶圆吸附在真空吸盘上，电机带动晶圆高速旋转。在晶圆上面中间部位喷洒光刻胶，在离心力的作用下，光刻胶均匀地涂布的晶圆表面，光刻胶具有一定的粘性，旋转的涂布方式会在晶圆侧面及背面残留有光刻胶，残胶会影响后续的工艺过程，也会在晶圆传递过程中造成设备污染，所以在涂胶步骤结束后，需要进行去边及背洗流程，在晶圆背面及正面边缘，有专门的喷洒去边剂的喷嘴，喷嘴可以喷出极细的柱状液体，配合电机的旋转，把晶圆侧面和背面的残胶洗掉，同时晶圆正面的光刻胶也会被去掉一定宽度。

这种方式可以快速高效的去除圆形基板的残胶，但是对于非完整圆形（有平边）或矩形基板，则不能完全去除或无法去除侧面及背面的残胶。

实用新型内容

（一）解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型公开了一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，以解决上述背景技术中提出的问题。

（二）技术方案

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，包括：

水平移动臂，所述水平移动臂的一侧设置有伸缩臂旋转机构，所述伸缩臂旋转机构的顶部设置有伸缩臂；

真空吸盘，所述真空吸盘的一侧设置有电机；

组合喷嘴，所述组合喷嘴的一侧设置有N喷嘴，所述组合喷嘴的一侧且在N喷嘴的其中一侧设置有去边剂喷嘴。

优选的，所述伸缩臂的一侧滑动连接有滑块，所述滑块的一端安装在组合喷嘴的一侧。

优选的，所述真空吸盘在伸缩臂的一侧且位于水平移动臂的上方。

优选的，所述真空吸盘的一侧设置有圆形晶圆。

优选的，所述真空吸盘的一侧设置有方形基板。

优选的，所述真空吸盘的一侧且位于水平移动臂的上方设置有带平边的晶圆。

本实用新型公开了一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，其具备的有益效果如下：

1、该实用新型，通过真空吸盘、水平移动臂、伸缩臂、组合喷嘴、伸缩臂旋转机构，真空吸盘吸附圆形或方形基板旋转和精准定位，组合喷嘴安装在伸缩臂上，可沿伸缩臂移动，伸缩臂旋转机构带动伸缩臂在工作范围内旋转，伸缩臂安装在水平移动臂上，伸缩臂可整体在水平方向移动，采用基板旋转，喷嘴固定和基板固定，喷嘴移动的方式进行基本边缘清洗，既可以清洗圆形晶圆，又可以清洗带平边晶圆或者方形基板。

2、该实用新型，组合喷嘴由一个N2喷嘴和一个去边剂喷嘴组成，去边剂喷嘴喷洒柱状去边剂，清洗基板边缘，N2喷嘴用于保护基板不受到飞溅的去边剂和清洗掉的残胶的污染，组合喷嘴可在平面内进行移动和旋转，实现定点喷洒和移动喷洒。

附图说明

图1为本实用新型整体结构示意图；