[实用新型]一种用于晶圆加工的晶圆清洗机有效

专利信息
申请号: 202123096965.X 申请日: 2021-12-10
公开(公告)号: CN216323723U 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 高文峰 申请(专利权)人: 上海祎丰环保科技有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67
代理公司: 苏州拓云知识产权代理事务所(普通合伙) 32344 代理人: 郭玉静
地址: 201505 上海市金山区亭*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 加工 清洗
【说明书】:

实用新型涉及晶圆清洗机技术领域,公开了一种用于晶圆加工的晶圆清洗机,包括箱壳和位于箱壳顶部的翻盖,所述箱壳的内腔前后两侧壁均转动连接有直杆,两个所述直杆之间固定连接有晶圆固定件,所述箱壳上设置有与背面所述直杆传动连接的动力件,所述箱壳的内部转动连接有位于晶圆固定件左侧的横管,所述横管的右端连通有短管,所述短管的右侧连通有等距离分布的喷头。该用于晶圆加工的晶圆清洗机,具备清洗效率高等优点,解决了现有技术中,待清洗的晶圆板固定在晶圆清洗机的清洗台上,通过位于清洗台上方的喷水头对清洗台上的晶圆板进行冲洗,清洗范围有限,不能对晶圆板的反面进行清洗,需要反向再次放置晶圆板,使得清洗效率低的问题。

技术领域

本实用新型涉及晶圆清洗机技术领域,具体是一种用于晶圆加工的晶圆清洗机。

背景技术

晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅,高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅,硅片晶圆生产清洗工艺中,使用清洗机有效去除硅片晶圆表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物,且不破坏晶片表面特性,根据不同清洗工艺配置相应的清洗单元,各部分有独立控制,随意组合。

现有技术中,待清洗的晶圆板固定在晶圆清洗机的清洗台上,通过位于清洗台上方的喷水头对清洗台上的晶圆板进行冲洗,清洗范围有限,不能对晶圆板的反面进行清洗,需要反向再次放置晶圆板,使得清洗效率低,故而提出一种用于晶圆加工的晶圆清洗机来解决上述所提出的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于晶圆加工的晶圆清洗机,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:

一种用于晶圆加工的晶圆清洗机,包括箱壳和位于箱壳顶部的翻盖,所述箱壳的内腔前后两侧壁均转动连接有直杆,两个所述直杆之间固定连接有晶圆固定件,所述箱壳上设置有与背面所述直杆传动连接的动力件,所述箱壳的内部转动连接有位于晶圆固定件左侧的横管,所述横管的右端连通有短管,所述短管的右侧连通有等距离分布的喷头,所述横管上设置有与动力件传动连接的传动件,所述短管的左端固定连接有位于箱壳左侧的旋转接头。

本实用新型的有益效果是:

该用于晶圆加工的晶圆清洗机,通过将待清洗的晶圆板固定在晶圆固定件上,通过旋转接头与输水管道连通,输水管道与外部泵体连通,使水通过旋转接头和横管进入短管内部,再由喷头喷出,对晶圆固定件上晶圆板进行清洗,同时配合动力件和传动件,使得直杆带动晶圆固定件转动,晶圆固定件带动其上的晶圆板转动,同时横管带动短管转动,短管带动喷头移动,进而增大冲洗的范围,使得喷头喷出的水能来回冲洗晶圆板的两面,从达到清洗效率高的目的。

作为本实用新型再进一步的方案:所述箱壳和翻盖的背面通过合页铰接,所述直杆呈前后对称分布。

采用上述进一步方案的有益效果是,配合合页,方便开合箱壳上的翻盖。

作为本实用新型再进一步的方案:所述晶圆固定件包括与两个所述直杆相对一端固定连接的环块,所述环块的顶部通过环形分布的螺栓固定连接有压环。

采用上述进一步方案的有益效果是,通过拆卸螺栓,使得待清洗的晶圆板位于环块和压环之间,再安装螺栓,固定待清洗的晶圆板。

作为本实用新型再进一步的方案:所述动力件包括与箱壳背面固定连接的电机,所述电机的输出端固定连接有转轴,所述转轴的外侧套接有主齿轮,所述转轴和背面所述直杆的外侧均套接有第一带轮,两个所述第一带轮之间通过第一传动带传动连接。

采用上述进一步方案的有益效果是,由电机带动转轴转动,转轴带动第一带轮和主齿轮转动,配合第一传动带,使得背面的直杆转动,直杆带动环块转动,使得其上待清洗的晶圆板随之转动。

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