[实用新型]均匀性高的蚀刻装置

权利要求书

1.一种均匀性高的蚀刻装置，包括蚀刻槽，其特征在于：还包括喷淋装置、吸液装置及传送装置，所述传送装置设置于蚀刻槽上方，所述喷淋装置分别设置于传送装置的上下两侧，所述吸液装置设置于传送装置的外侧；所述传送装置包括上下相对设置的上传动轮组及下传动轮组，所述上传动轮组及下传动轮组上均分别设置有预喷淋及喷淋区，所述上传动轮组的喷淋区、预喷淋区与下传动轮组的喷淋区、预喷淋区均呈错位设置；所述喷淋装置包括主管及连接于主管上的两支管，两所述支管上装设有喷淋头，两支管分别延伸于产品的上表面上方及下表面下方，两支管上的喷淋头分别对产品上表面及下表面进行喷淋加工；所述吸液装置包括抽取管、虹吸泵、回液管、连接管、吸液管、吸液头及过滤槽，所述抽取管一端连接于蚀刻槽内，另一端连接于虹吸泵，所述回液管一端连接于虹吸泵上，另一端连接于连接管上及过滤槽内；所述连接管连接于吸液管上，所述吸液管延伸于传送装置上产品的外侧；所述吸液头装设于吸液管上，且相邻吸液头呈上下错位设置。

2.如权利要求1所述的均匀性高的蚀刻装置，其特征在于：所述喷淋区及预喷淋区于传送方向的前后两侧均设置有喷淋挡板。

3.如权利要求1所述的均匀性高的蚀刻装置，其特征在于：所述喷淋装置还包括抽液管及喷淋泵，所述抽液管的一端连接于蚀刻槽，另一端连接于所述主管上。

4.如权利要求1所述的均匀性高的蚀刻装置，其特征在于：所述吸液头的下端面呈水平设置，该吸液头的下端面上设置有吸液口，所述吸液口自上向下呈孔径逐渐变小设置。

5.如权利要求1所述的均匀性高的蚀刻装置，其特征在于：所述吸液装置上还设置有机械臂，所述机械臂带动吸液头前后、左右移动。

6.如权利要求1所述的均匀性高的蚀刻装置，其特征在于：所述过滤槽连接于所述蚀刻槽内，该过滤槽的位置高于蚀刻槽液位或设置有泵。

7.如权利要求1所述的均匀性高的蚀刻装置，其特征在于：所述喷淋头上还设置有感应开关，该喷淋头与喷淋管连接的一端上还设置有旋转装置，所述旋转装置带动喷淋头旋转。