[实用新型]一种连续镀膜生产线用的基片架回转限位装置有效
申请号: | 202123122006.0 | 申请日: | 2021-12-08 |
公开(公告)号: | CN217324280U | 公开(公告)日: | 2022-08-30 |
发明(设计)人: | 彭友前;姜翠宁 | 申请(专利权)人: | 洛阳生波尔真空装备有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/50 |
代理公司: | 中山卓融知识产权代理事务所(普通合伙) 44791 | 代理人: | 彭国军;赵钊 |
地址: | 471822 河南省洛*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 连续 镀膜 生产线 基片架 回转 限位 装置 | ||
本实用新型提供一种连续镀膜生产线用的基片架回转限位装置,包括设于回转架本体一侧的传送轮和设于所述传送轮顶部的磁导轨,所述磁导轨的两内侧设有磁性相同的磁铁,所述传送轮上设有供基片架本体卡入的卡环。本实用新型采用上述结构,基片架本体的顶部通过磁导轨进行磁导向悬空定位,而底部则卡入传送轮的卡环内,从而实现基片架本体良好的定位,防止其在随回转架一并回转时甩出。
【技术领域】
本实用新型涉及真空镀膜领域,尤其是一种连续镀膜生产线用的基片架回转限位装置。
【背景技术】
传统的连续式镀膜生产一般在一条连续式生产线上完成,其往一条直线方向进行流水式加工。当产品需要镀膜的膜层需求越多时,镀膜加工工艺的流程要求也越多,所需要配置的靶位也需要随之增加,从而导致所需要的镀膜真空室的节数(数量)增多,最终导致生产线线体的长度增加,从而需要占用的厂房空间也随之而增加。而一些厂房受长度的限制,无法摆放总长度过长的连续生产线,因此无法制备膜层要求复杂的产品。
为解决上述技术问题,申请人提出一种可缩短镀膜生产线整体长度且可提高镀膜生产效率的用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备的技术方案,在该回转设备中,如何在回转过程中保证基片架的定位效果正是本实用新型所需要解决的。
【实用新型内容】
本实用新型要解决的技术问题是提供可对基片架本体进行有效的定位以防止其在回转时甩出的一种连续镀膜生产线用的基片架回转限位装置。
本实用新型的目的是这样实现的:
一种连续镀膜生产线用的基片架回转限位装置,包括设于回转架本体一侧的传送轮和设于所述传送轮顶部的磁导轨,所述磁导轨的两内侧设有磁性相同的磁铁,所述传送轮上设有供基片架本体卡入的卡环。
本实用新型采用上述结构,基片架本体的顶部通过磁导轨进行磁导向悬空定位,而底部则卡入传送轮的卡环内,从而实现基片架本体良好的定位,防止其在随回转架一并回转时甩出。
如上所述的一种连续镀膜生产线用的基片架回转限位装置,所述卡环内套设有限位胶圈,限位胶圈可增大传送轮的摩擦力,从而进一步提高其对基片架本体的定位效果。
如上所述的一种连续镀膜生产线用的基片架回转限位装置,还包括设于回转架本体外侧的电磁铁和设于基片架本体上且用于供所述电磁铁吸住的定位片,电磁铁将定位片吸住,从而进一步提高对基片架本体的定位作用。
如上所述的一种连续镀膜生产线用的基片架回转限位装置,所述磁导轨、回转架本体和传送轮向外倾斜设置以适配安装大尺寸产品的基片架本体,位于所述磁导轨外侧的磁铁的磁力大于位于所述磁导轨内侧的磁铁的磁力以保证磁导轨对基片架本体的磁悬浮导向作用。
【附图说明】
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步详细说明,其中:
图1为本实用新型适用于大尺寸产品的回转设备的结构示意图;
图2为本实用新型所述电磁铁与所述定位片吸住配合的结构示意图;
图3为本实用新型所述基片架本体的结构示意图;
图4本实用新型适用于小尺寸产品的回转设备的结构示意图。
【具体实施方式】
一种连续镀膜生产线用的基片架回转限位装置,包括设于回转架本体31一侧的传送轮41和设于传送轮41顶部的磁导轨7,磁导轨7的两内侧设有磁性相同的磁铁,传送轮41上设有供基片架本体10卡入的卡环83。
为增大传送轮41的摩擦力以进一步提高其对基片架本体10的定位效果,卡环83内套设有限位胶圈84。优选的,传送轮41采用摩擦轮。
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