[实用新型]一种锗单晶炉用防泄漏引流装置

说明书

本实用新型公开了一种锗单晶炉用防泄漏引流装置，包括外置炉框、内炉体和引流气囊。本实用新型锗单晶炉用防泄漏引流装置，当外置炉框内部的气压过高时，气体通过进气口进入到外管框中并对密封垫进行挤压，密封垫在挤压的过程中，密封垫中心的通气孔扩张变大，气体通过通气孔后进入到气囊本体中，气体通过排气总管进入到排出管与回流管内，转动排出管上的梅花钮，安插柱从阀门框体内向外移出，气体通过透气孔后向外排出，同理转动回流管上的梅花钮，气体沿着回流管重新回到外置炉框内部，该装置能够在锗单晶炉内部气压过大时，主动对锗单晶炉内部进行气压的引流并收集，保持锗单晶炉内部气压的稳定性。

技术领域

本实用新型涉及锗单晶炉技术领域，具体为一种锗单晶炉用防泄漏引流装置。

背景技术

锗单晶做为重要的半导体材料，制备锗单晶硅的过程中需要用到的设备是锗单晶炉，锗单晶炉是一种在惰性气体环境中，用石墨电阻加热器将硅半导体材料溶化，并采用直拉法生长无错位锗单晶硅的设备，但是在对锗单晶硅的使用过程中发现，当锗单晶炉内部的气压过大时，容易导致锗单晶炉内的气体增压外泄，从而影响锗单晶炉的正常使用。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种锗单晶炉用防泄漏引流装置，能够在锗单晶炉内部气压过大时，主动对锗单晶炉内部进行气压的引流并收集，保持锗单晶炉内部气压的稳定性，可以解决现有技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种锗单晶炉用防泄漏引流装置，包括外置炉框、内炉体和引流气囊，所述外置炉框的内部设有内炉体，所述内炉体的顶部设有引流气囊，所述引流气囊与内炉体之间采用隔板隔开；

所述引流气囊包括气囊本体、进气管、排气总管、排出管、回流管和控制阀，所述气囊本体的底端连接有进气管，所述气囊本体的一侧连接有排气总管，排气总管与气囊本体的内部相互连通，所述排气总管远离气囊本体的一端连接有排出管，所述排出管的下方设有回流管，所述回流管与排气总管之间相互连通，所述排出管和回流管上均设有控制阀。

优选的，所述进气管包括外管框、密封垫、通气孔、进气口和出气口，所述外管框的内部设有密封垫，所述密封垫的内部开设有通气孔，所述外管框的底部开设有进气口，所述外管框的顶端安插在气囊本体中，外管框的顶部开设有出气口。

优选的，所述控制阀包括阀门框体、透气孔、安插柱、外置螺纹和梅花钮，所述阀门框体的两侧均开设有透气孔，所述阀门框体的内部设有安插柱，所述安插柱的外侧开设有外置螺纹，所述安插柱的外侧固定连接有梅花钮。

优选的，所述密封垫为采用橡胶材质制成的构件，外管框的内部共设有四层密封垫，密封垫的外侧与外管框之间固定粘连连接，密封垫内部的通气孔在常态下保持封闭状态。

优选的，所述阀门框体的内壁上设有内置螺纹槽，安插柱上的外置螺纹与内置螺纹槽之间相互咬合。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

本实用新型锗单晶炉用防泄漏引流装置，当外置炉框内部的气压过高时，气体通过进气口进入到外管框中并对密封垫进行挤压，密封垫在挤压的过程中，密封垫中心的通气孔扩张变大，气体通过通气孔后进入到气囊本体中，气体通过排气总管进入到排出管与回流管内，转动排出管上的梅花钮，安插柱从阀门框体内向外移出，气体通过透气孔后向外排出，同理转动回流管上的梅花钮，气体沿着回流管重新回到外置炉框内部，该装置能够在锗单晶炉内部气压过大时，主动对锗单晶炉内部进行气压的引流并收集，保持锗单晶炉内部气压的稳定性。

附图说明

图1为本实用新型的剖视图；

图2为本实用新型引流气囊的结构示意图；

图3为本实用新型进气管的剖视图；

图4为本实用新型控制阀的剖视图。