[实用新型]一种可编程只读存储单元及存储器有效
申请号: | 202123202811.4 | 申请日: | 2021-12-17 |
公开(公告)号: | CN216596248U | 公开(公告)日: | 2022-05-24 |
发明(设计)人: | 王春华 | 申请(专利权)人: | 南京沁恒微电子股份有限公司 |
主分类号: | G06F30/392 | 分类号: | G06F30/392 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 210012 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 可编程 只读 存储 单元 存储器 | ||
本实用新型公开了一种可编程只读存储单元及存储器,可编程只读存储单元包括N阱,N阱上设有串联的第一PMOS管、第二PMOS管;第一PMOS管为选择管,第二PMOS管为浮置栅极的存储管,第二PMOS管的栅极上方没有金属硅化物,且第二PMOS管栅极的平均厚度小于第一PMOS管栅极的平均厚度,第一PMOS管的宽度大于第二PMOS管的宽度。本实用新型减少了非设计寄生电容、增大了有益寄生电容占比、提高了编程门槛、降低了误编程概率,提高了产品的可靠性。
技术领域
本实用新型属于集成电路设计领域,尤其涉及一种OTP浮栅型可编程只读存储单元。
背景技术
现有技术CN1192436C公开了一种可编程只读存储器,如图1所示,包含N 阱012,N阱012上有两个串联的PMOS,即第一PMOS管01和第二PMOS管 02,第一PMOS管01的栅极为03,第二PMOS管02的栅极为05,两个PMOS 管共用一个P+区域04,010为金属层,011为接触孔,两个PMOS以规则允许的最小栅间距设计,且两个PMOS的宽度应为相等。
在高电压下进行编程,编程时,存储管的源极为高电压,存储管的漏极为低电压,两者压差较大,栅极依靠浮栅与漏极之间寄生电容等,分压获得相对于其源极的开启电压,热电子流过并部分存入浮栅,从而实现数据编程。其各寄生电容如图2所示。
随着工艺精度提高、线宽减细、距离缩短,寄生电容的形式更加多元,且合计占比越来越大,不同工艺之间的差异不利于设计和工艺移植,过多的杂散寄生不利于分析和仿真。总之,寄生电容对OTP浮栅型可编程只读存储单元的良率和可靠性影响越来越大,甚至在较高电压下正常工作期间和快速上电下电期间,存储管的浮置栅极因多元化的寄生电容获得更多分压,从而意外开启导致误编程。
发明内容
发明目的:为了解决现有技术中,可编程只读存储单元的寄生电容多元,影响设计分析,影响产品可靠性的问题,本发明提供一种可编程只读存储单元及存储器。
技术方案:一种可编程只读存储单元,包括N阱,N阱上设有串联的第一 PMOS管、第二PMOS管;
所述第一PMOS管为选择管,第一PMOS管的源极与N阱电连接,第一 PMOS管的栅极连接字选择控制信号,第一PMOS管的漏极与第二PMOS的源极电连接且共用同一P+区域;
所述第二PMOS管为浮置栅极的存储管,第二PMOS管的漏极作为位线输出,第二PMOS管的栅极上方没有金属硅化物,且第二PMOS管栅极的平均厚度小于第一PMOS管栅极的平均厚度;
所述第一PMOS管的宽度大于第二PMOS管的宽度。
进一步地,在可编程只读存储单元的设计版图中,所述第二PMOS管的栅极上方覆盖有金属硅化物阻挡层。
进一步地,所述P+区域包括靠近第一PMOS管的第一子区域和靠近第二 PMOS管的第二子区域,所述第一子区域的宽度大于第二子区域的宽度。
进一步地,所述第一子区域中超出第二子区域侧边的部分为延展部,设延展部与第二PMOS管栅极间的距离为d,d为版图设计规则中所能允许的有源区与场氧POLY间距离的最小值。
进一步地,所述第一子区域两侧各包含一个延展部,两侧延展部对称,宽度相同。
进一步地,所述第一子区域只在一侧设有延展部。
一种可编程只读存储器,包含可编程只读存储阵列,所述可编程只读存储阵列包含多个上述的可编程只读存储单元。
本实用新型提供一种可编程只读存储单元及存储器,相比较现有技术,从减少非设计寄生电容、增大有益寄生电容占比、提高编程门槛、减少意外误编程、提高产品可靠性等多角度,存在以下有益效果:
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