[实用新型]基于微影用途的光罩保持容器有效
申请号: | 202123212620.6 | 申请日: | 2021-12-20 |
公开(公告)号: | CN217279258U | 公开(公告)日: | 2022-08-23 |
发明(设计)人: | 陈啓仲 | 申请(专利权)人: | 陈啓仲 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 用途 保持 容器 | ||
1.一种基于微影用途的光罩保持容器,其特征在于,供收纳一具电路图案的光罩,该光罩保持容器包含有:
一基座,其具有一底板;
一盖体,其具有一对应该基座底板的顶板,该盖体的顶板周缘形成有向该基座延伸的环状壁面,当该盖体选择性与该基座相对盖合时,两者之间形成一用以容纳该光罩的内腔、且将该光罩移动固定于一限制位置上;
一第一视窗组及一第二视窗组,分别设置于该基座底板与该盖体顶板中对应该光罩于该内腔限制位置之处,且该第一视窗组及该第二视窗组分别具有一透明石英板,而该多个透明石英板的透光率大于或等于90%,又其中该第一视窗组与该第二视窗组的可视范围大于或等于该光罩的电路图案;
当该光罩收纳限制于该光罩保持容器后,能够于一微影设备内,通过一微影光束由第一视窗组或二视窗组的透明石英板外部射入、且经该光罩后再由相对的第二视窗组或第一视窗组的透明石英板射出,使该微影光束投射通过光罩的电路图案转印至该工作载台的晶圆表面。
2.根据权利要求1所述的光罩保持容器,其特征在于,该第一视窗组与该第二视窗组的透明石英板的纯度大于或等于99.995%,且金属杂质的含量为5ppm以下。
3.根据权利要求1所述的光罩保持容器,其特征在于,中该第一视窗组设于该基座的底板上,其于该基座底板上形成有一对应光罩限制位置的第一穿透孔,且该底板于对应第一穿透孔的顶面周缘形成有一供置设该第一视窗组透明石英板的阶级槽,并于该阶级槽内设有一供该透明石英板压掣的密封环垫,再者该基座的底板顶面覆设有一底覆片,且该底覆片具有一内径对应该第一穿透孔的第二穿透孔,供将该透明石英板压掣固定于该基座上。
4.根据权利要求1所述的光罩保持容器,其特征在于,该第二视窗组设于该盖体的顶板上,其于该盖体顶板上形成有一对应光罩限制位置的第三穿透孔,且该顶板于对应第三穿透孔的顶面周缘形成有一供设置该第二视窗组透明石英板的阶级槽,并于该透明石英板上方周缘压掣有一密封环垫,再者该盖体的顶板顶面覆设有一顶覆片,且该顶覆片具有一内径对应该第三穿透孔的第四穿透孔,供将该透明石英板压掣固定于该盖体。
5.根据权利要求1所述的光罩保持容器,其特征在于,该盖体的环状壁面具有相邻连接的第一壁面、第二壁面、第三壁面及第四壁面,而其中任一组相对应的壁面上分别设有一对应于限制位置的光罩侧面的侧透光组,且该多个侧透光组分别具有一透明石英板,而该多个透明石英板的透光率大于或等于90%,又其中该多个侧透光组的可透光范围大于该光罩的侧面轮廓,当该光罩收纳限制于该光罩保持容器后,能够于一视觉检测设备内,由该光罩保持容器两侧外部通过一第一光源组及一第二光源组以光束由该多个侧透光组的石英玻璃板射入、且投射于该光罩上表面及下表面,并在该光罩保持容器上方、下方外部通过一第一影像感测装置及一第二影像感测装置经该第一视窗组与该第二视窗组的石英玻璃板同步检知该光罩上表面及下表面的污染物。
6.根据权利要求5所述的光罩保持容器,其特征在于,该盖体的侧透光组于相对的第一壁面与第三壁面或第二壁面与第四壁面上形成有一对应光罩侧面的侧穿透孔,且该侧穿透孔的外侧面周缘形成有一供置设该侧透光组透明石英板的阶级槽,并于该阶级槽内设有一供该透明石英板压掣的密封环垫,再者该盖体的该多个侧透光组透明石英板外侧面覆设有一侧覆环框,供将该侧透光组的透明石英板压掣固定于该盖体上。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备