[实用新型]一种高纯多晶硅硅芯连接结构有效

专利信息
申请号: 202123267143.3 申请日: 2021-12-23
公开(公告)号: CN216737604U 公开(公告)日: 2022-06-14
发明(设计)人: 任长春;徐丽丽;王生红;鲍守珍;史正斌 申请(专利权)人: 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海亚洲硅业半导体有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
主分类号: C01B33/035 分类号: C01B33/035
代理公司: 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 代理人: 张巨箭
地址: 810007 青海*** 国省代码: 青海;63
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摘要:
搜索关键词: 一种 高纯 多晶 硅硅芯 连接 结构
【说明书】:

实用新型公开了一种高纯多晶硅硅芯连接结构,包括石墨底座、石墨帽、底装硅芯和上装硅芯,所述石墨底座上设置有石墨帽,所述石墨帽内贯穿安装所述底装硅芯,所述底装硅芯的上部设置有所述上装硅芯;所述底装硅芯的高度高于石墨帽的高度。相较于现有技术中采用石墨卡瓣作为连接件,该连接方式生产的多晶硅产品在近石墨卡瓣位置碳含量较高(俗称碳头料),此部分产品品质较低,本实用新型通过底装硅芯与石墨底座(在石墨帽的作用下)直接固定整个硅芯(包括上装硅芯),可减少碳头料,实现高纯多晶硅的生产。

技术领域

本实用新型涉及多晶硅生产技术领域,尤其涉及一种高纯多晶硅硅芯连接结构。

背景技术

晶体硅是微电子行业和光伏行业的基础材料,而改良西门子法是当下制备多晶硅的主流方法。改良西门子法的特点是:在钟罩式化学气相沉积(CVD)反应器(行业术语为多晶硅还原炉)中,以通电自加热至温度为950-1150℃的细硅芯为沉积载体,通入多晶硅还原炉的三氯氢硅与氢气在热硅芯表面发生氢还原反应,被还原的硅沉积在硅芯表面,随着氢还原反应的进行,硅芯的直径逐渐变大,直至达到规定的尺寸,最终以多晶硅棒的形式采出。

传统的硅芯安装方式是石墨卡瓣作为连接件,石墨帽倒角与石墨卡瓣倒角匹配,通过石墨帽与石墨底座连接,收缩夹持硅芯,石墨底座匹配安装于还原炉电极上,实现硅芯的安装。此种硅芯安装方式生产的多晶硅产品在近石墨卡瓣位置碳含量较高,俗称碳头料,此部分产品品质较低。

因此,针对上述问题,提供一种高纯多晶硅硅芯连接结构,是本领域亟待解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供一种高纯多晶硅硅芯连接结构。

本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的:

本实用新型的第一方面,提供一种高纯多晶硅硅芯连接结构,包括石墨底座、石墨帽、底装硅芯和上装硅芯,所述石墨底座上设置有石墨帽,所述石墨帽内贯穿安装所述底装硅芯,所述底装硅芯的上部设置有所述上装硅芯;所述底装硅芯的高度高于石墨帽的高度。

进一步地,所述石墨帽具有与所述底装硅芯形状匹配的第一开槽。

进一步地,所述第一开槽为锥形开槽,所述底装硅芯为锥形硅芯。

进一步地,所述锥形的角度为大于0度小于90度之间的任意角度。

进一步地,所述底装硅芯的上部包括一定高度的第一凹陷,所述上装硅芯为圆形/方形/锥形底部嵌入第一凹陷能形成结合。

作为一种可选项,所述上装硅芯的下部包括与所述第一凹陷匹配的对应凸起。

进一步地,所述底装硅芯的上部具有一定高度的第一凸起,所述上装硅芯的下部包括与所述第一凸起匹配的第二凹陷。

进一步地,所述凹陷为柱形/锥形凹陷,所述凸起为柱形/锥形凸起。

进一步地,所述上装硅芯为圆形硅芯或方形硅芯或锥形硅芯。

进一步地,所述石墨底座的底部具有与外部还原炉电极连接的第二开槽。

进一步地,所述底装硅芯和上装硅芯为一体成型的硅芯。

进一步地,所述底装硅芯和上装硅芯为区熔拉晶、硅棒切割和硅棒研磨中其中一种方式制备得到的硅芯。

本实用新型的有益效果是:

(1)在本实用新型的一示例性实施例中,相较于现有技术中采用石墨卡瓣作为连接件,该连接方式生产的多晶硅产品在近石墨卡瓣位置碳含量较高(俗称碳头料),此部分产品品质较低,本示例性实施例通过底装硅芯与石墨底座(在石墨帽的作用下)直接固定整个硅芯(包括上装硅芯),可减少碳头料,实现高纯多晶硅的生产。

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