[实用新型]一种用于大板级扇出型封装基板的退膜显影清洗装置

权利要求书

1.一种用于大板级扇出型封装基板的退膜显影清洗装置，用于清洗并除去片状基板的表面的薄膜，其特征在于，包括：承载架体、喷淋显影单元、退膜单元及喷淋水洗单元；

所述承载架体，用以承载固定所述喷淋显影单元、退膜单元及喷淋水洗单元；

所述喷淋显影单元，用以通过在片状基板的表面喷淋预定的显影剂进行显影；

所述退膜单元，用以对经所述喷淋显影单元处理过的片状基板的表面进行退膜清洗，所述退膜单元包括超声退膜分单元及喷淋退膜分单元，所述超声退膜分单元用以通过底振超声清洗片状基板的表面薄膜，所述喷淋退膜分单元用以通过喷淋剥膜剂清洗片状基板的表面的薄膜；

所述喷淋水洗单元，用以对经所述退膜单元退膜处理过的片状基板进行喷淋水洗。

2.根据权利要求1所述的用于大板级扇出型封装基板的退膜显影清洗装置，其特征在于,所述喷淋显影单元包括显影清洗腔室、显影喷淋系统及显影储液槽，所述显影清洗腔室为全不锈钢结构，所述显影储液槽与所述显影清洗腔室为一体化结构。

3.根据权利要求2所述的用于大板级扇出型封装基板的退膜显影清洗装置，其特征在于,所述显影喷淋系统包括喷嘴、喷淋管、喷淋泵及过滤组件，每条所述喷淋管上配置有多个所述喷嘴，所述喷嘴的喷射角度能够调整，所述喷淋泵与所述显影储液槽对应设置，所述过滤组件设在所述喷淋管上用以过滤显影剂。

4.根据权利要求3所述的用于大板级扇出型封装基板的退膜显影清洗装置，其特征在于,所述过滤组件包括粗滤网及精滤器，所述粗滤网设在用以初次过滤回流至所述显影储液槽的显影剂，所述精滤器设置在所述喷淋泵的入口端，用以二次过滤流至喷淋泵的显影剂。

5.根据权利要求2所述的用于大板级扇出型封装基板的退膜显影清洗装置，其特征在于,所述显影清洗腔室的外部包设有保温层。

6.根据权利要求2所述的用于大板级扇出型封装基板的退膜显影清洗装置，其特征在于,还包括两套加热系统，两套所述加热系统分别设置在所述喷淋显影单元及退膜单元中，分别用以加热显影剂及剥膜剂。

7.根据权利要求6所述的用于大板级扇出型封装基板的退膜显影清洗装置，其特征在于,所述加热系统设有恒温控制元件，所述恒温控制元件用以控制将所述显影剂或剥膜剂加热至预定温度范围内。

8.根据权利要求1所述的用于大板级扇出型封装基板的退膜显影清洗装置，其特征在于,所述超声退膜分单元所产生的超声波的功率能够调整，且所述功率的调整范围为0W-1500W。

9.根据权利要求1所述的用于大板级扇出型封装基板的退膜显影清洗装置，其特征在于,还包括两件摇摆机构，两件所述摇摆机构分别设在所述喷淋显影单元、退膜单元中，所述摇摆机构的摇摆频率能够调整，且所述摇摆频率的调整范围为0次-20次/分钟。

10.根据权利要求1所述的用于大板级扇出型封装基板的退膜显影清洗装置，其特征在于,所述喷淋水洗单元至少包括第一喷淋水洗单元及第二喷淋水洗单元，所述第一喷淋水洗单元及第二喷淋水洗单元分别对经所述退膜单元退膜处理过的片状基板进行初次清洗及二次清洗。