[实用新型]一种晶圆蒸发台行星架有效

专利信息
申请号: 202123311545.9 申请日: 2021-12-27
公开(公告)号: CN216639637U 公开(公告)日: 2022-05-31
发明(设计)人: 丁桃宝;张志华 申请(专利权)人: 如东汇盛通半导体科技有限公司
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50;C23C14/24
代理公司: 苏州金项专利代理事务所(普通合伙) 32456 代理人: 金星
地址: 226400 江苏省南通*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 蒸发 行星
【说明书】:

实用新型涉及半导体加工领域,且公开了一种晶圆蒸发台行星架,该行星架可以通过盖板对空隙进行填充,且盖板可以上下滑动取下和安装,有效解决背景技术中提出的问题。包括上凸的圆形伞状结构的架体,架体上周向均匀设有若干容置槽,所述的容置槽靠近圆心的一侧分别固定设有对空隙填充且可上下滑动的封盖组件。所述的封盖组件包括立杆,立杆底部与架体固定连接,立杆上可上下滑动套置有套环,套环外侧与盖板内侧固定连接,盖板底面外侧边缘固定设有与空隙配合的填充块。它操作简单,使用方便,适用于多种规格的晶圆。

技术领域

本实用新型涉及半导体加工领域,具体为一种晶圆蒸发台行星架。

背景技术

在晶圆加工过程中,需要对晶圆进行蒸发镀膜。现有的一种蒸发台行星架,其结构包括上凸的圆形伞状结构,架体上周向均匀设有若干容置槽,容置槽相应设有盖板。上述结构的蒸发台行星架,可以对晶圆起到蒸发镀膜作用,但是晶圆由于工艺要求边沿常留有平边,而容置槽是圆形的,这就使得晶圆平边与容置槽之间形成空隙,蒸发时容易导致金属蒸发到晶圆背面和盖板上,影响良品率。

实用新型内容

针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种晶圆蒸发台行星架,该行星架可以通过盖板对空隙进行填充,且盖板可以上下滑动取下和安装,有效解决背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种晶圆蒸发台行星架,包括上凸的圆形伞状结构的架体,架体上周向均匀设有若干容置槽,其特征在于:所述的容置槽靠近圆心的一侧分别固定设有对空隙填充且可上下滑动的封盖组件。

优选的,所述的封盖组件包括立杆,立杆底部与架体固定连接,立杆上可上下滑动套置有套环,套环外侧与盖板内侧固定连接,盖板底面外侧边缘固定设有与空隙配合的填充块。

优选的,所述的立杆整体呈圆柱形,内外两侧分别固定设有条形凸台,套环内表面分别嵌有与条形凸台滑动配合的滑道槽,条形凸台上端部与立杆顶部留有一端空间,空间的高度大于套环的高度,立杆顶部固定设有限位凸台,限位凸台与条形凸台之间的立杆上套置有弹簧。

优选的,所述的套环靠近架体圆心的一侧外表面固定设有把手,把手呈向外开口的U形结构。

优选的,所述的限位凸台呈扁平的圆柱形,内侧面嵌有螺纹盲孔,立杆顶部设有与螺纹盲孔配合的外螺纹。

优选的,所述的弹簧伸展状态下两端分别抵触限位凸台与条形凸台。

与现有技术相比,本实用新型提供了一种晶圆蒸发台行星架,具备以下有益效果:

1.本实用新型通过容置槽靠近圆心的一侧分别固定设有对空隙填充且可上下滑动的封盖组件,封盖组件可以对晶圆平边与容置槽之间产生的空隙起到填充作用,可以有效避免金属蒸发到晶圆背面和盖板上,利于提高良品率,且盖板连同连同填充块可以上下滑动安装和取下,便于晶圆的取放。

2.本实用新型通过条形凸台上端部与立杆顶部留有一端空间,空间的高度大于套环的高度,立杆顶部固定设有限位凸台,限位凸台与条形凸台之间的立杆上套置有弹簧,使用时,套环连同盖板可以向上滑动,条形凸台与滑道槽可以对盖板进行限位,向下滑动时利于对准容置槽,当向上滑动且滑动至条形凸台上侧时,可以转向一侧,在弹簧的作用下可以对套环压紧,避免转动,此时方便工作人员对晶圆进行操作。

3.本实用新型通过套环靠近架体圆心的一侧外表面固定设有把手,把手方便工作人员上下滑动套环,进而便于盖板的安装与打开。

附图说明

图1为本实用新型的主视结构示意图(封盖组件仅示出左右两组);

图2为图1中架体的俯视结构示意图(封盖组件未示出);

图3为图2中右侧封盖组件的放大结构示意图;

图4为图3中套环与立杆配合的俯视结构示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于如东汇盛通半导体科技有限公司,未经如东汇盛通半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202123311545.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top