[实用新型]一种引线框架的变形校正治具有效
申请号: | 202123319373.X | 申请日: | 2021-12-24 |
公开(公告)号: | CN216487995U | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
发明(设计)人: | 于顺亮;于平 | 申请(专利权)人: | 珠海全润科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/67 |
代理公司: | 珠海智专专利商标代理有限公司 44262 | 代理人: | 陈美因 |
地址: | 519199 广东省珠海市斗门区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 引线 框架 变形 校正 | ||
1.一种引线框架的变形校正治具,其特征在于:包括底座和至少两个校正组件,两个所述校正组件相对地设置在所述底座的两侧,两个所述校正组件之间的距离可调;
所述校正组件包括连接件、导向轮、限位垫圈和螺母,所述螺母与所述连接件螺纹连接,所述导向轮通过所述连接件和所述螺母可拆卸地连接在所述底座上,所述限位垫圈连接在所述导向轮与所述底座之间,所述导向轮到所述底座的顶面之间具有预设距离,所述导向轮能绕所述连接件旋转,所述导向轮的外周壁上开设有凹槽,所述凹槽沿所述导向轮的周向延伸,在竖直方向上,两个所述凹槽所在高度相等。
2.根据权利要求1所述的变形校正治具,其特征在于:
所述凹槽设为V型槽。
3.根据权利要求1所述的变形校正治具,其特征在于:
所述底座贯穿地开设有两个滑孔,两个所述滑孔对应地设置在所述底座横向的两侧,所述滑孔沿横向延伸,所述连接件插装在所述滑孔内并能沿所述滑孔的延伸方向移动。
4.根据权利要求3所述的变形校正治具,其特征在于:
所述底座的底壁还开设有两个滑槽,所述滑槽与所述滑孔对应设置并连通,所述滑槽的宽度大于所述滑孔的宽度,所述滑槽的长度大于所述滑孔的长度,所述螺母设置在所述滑槽内。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造