[实用新型]基于深矢高工件的内壁测量系统有效

专利信息
申请号: 202123328248.5 申请日: 2021-12-27
公开(公告)号: CN216846033U 公开(公告)日: 2022-06-28
发明(设计)人: 陈远流;胡朋;居冰峰 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G01B5/20 分类号: G01B5/20
代理公司: 杭州易中元兆专利代理有限公司 33341 代理人: 张安心
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 基于 深矢高 工件 内壁 测量 系统
【权利要求书】:

1.基于深矢高工件的内壁测量系统,其特征在于,包括:

水平底座,其上设有XY定位平台,XY定位平台包括X方向移动的X向运动平台以及Y方向移动的Y向运动平台;

转台,设置在XY定位平台上,用于绕Z向旋转;

工件座,设置在所述转台上,用于放置深矢高工件;

竖直底座,其上设有Z方向移动的Z向运动平台;

侧向计,设置在所述Z向运动平台上,用于对深矢高工件的内壁侧壁进行测量;以及

轴向计,设置在所述Z向运动平台上用于对深矢高工件的内壁底壁进行测量。

2.根据权利要求1所述的一种基于深矢高工件的内壁测量系统,其特征在于:还包括第一构件空间姿态调整装置,设置在所述转台与所述工件座之间,用于驱动所述工件座绕X向旋转或/和绕Y向旋转。

3.根据权利要求2所述的一种基于深矢高工件的内壁测量系统,其特征在于:所述第一构件空间姿态调整装置包括两个分别绕所述X向旋转与绕所述Y向旋转的第一角位台。

4.根据权利要求1所述的一种基于深矢高工件的内壁测量系统,其特征在于:还包括两个第二构件空间姿态调整装置,其设置在所述Z向运动平台上;所述侧向计和轴向计分别设置在对应的所述第二构件空间姿态调整装置上;第二构件空间姿态调整装置用于驱动所述侧向计和轴向计绕X向旋转或/和Z向旋转。

5.根据权利要求4所述的一种基于深矢高工件的内壁测量系统,其特征在于:所述第二构件空间姿态调整装置包括两个分别绕所述X向旋转与绕所述Z 向旋转的第二角位台。

6.根据权利要求1所述的一种基于深矢高工件的内壁测量系统,其特征在于:所述侧向计与轴向计均包括测量杆,以及设置在测量杆末端上的测量球。

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