[实用新型]一种硅片研磨液前处理装置和硅片研磨设备

说明书

本实用新型提供一种硅片研磨液前处理装置和硅片研磨设备。硅片研磨液前处理装置包括：反应釜，用于去除研磨液中的基质；定容液供给组件，与所述反应釜连接，所述定容液供给组件用于向所述反应釜供给定容液；浓缩柱，用于分离和浓缩研磨液中的金属元素，所述浓缩柱的输出端与检测设备连接。多通阀，所述反应釜与所述多通阀连接，所述多通阀还与废液管连接，所述多通阀用于控制所述反应釜与所述废液管连通，或者控制所述反应釜与所述浓缩柱连通。本实用新型实施例提高了对于研磨液中金属元素的检测的便利性。

技术领域

本实用新型涉及半导体加工技术领域，尤其涉及一种硅片研磨液前处理装置和硅片研磨设备。

背景技术

硅片等半导体加工过程中，通常包括机械研磨的步骤，机械研磨过程中，需要利用研磨垫研磨晶圆，这一过程中，需要向研磨垫和晶圆之间供给研磨液。然而研磨液中可能存在一些重金属或过度金属等元素，这些元素可能会对硅片的性质造成不利的影响，因此，有必要对研磨液中的金属元素含量进行检测。由于研磨液中含有大量的硅基质，因此，现有技术中通常需要人工对研磨液进行预处理之后，再进行金属元素的成分检测，可见，现有方式对于金属元素的检测较为不便。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种硅片研磨液前处理装置和硅片研磨设备，以解决现有方式对于金属元素的检测较为不便的问题。

第一方面，本实用新型实施例提供了一种硅片研磨液前处理装置，包括：

反应釜，用于去除研磨液中的基质；

定容液供给组件，与所述反应釜连接，所述定容液供给组件用于向所述反应釜供给定容液；

浓缩柱，用于分离和浓缩研磨液中的金属元素，所述浓缩柱的输出端与检测设备连接；

多通阀，所述反应釜与所述多通阀连接，所述多通阀还与废液管连接，所述多通阀用于控制所述反应釜与所述废液管连通，或者控制所述反应釜与所述浓缩柱连通。

在一些实施例中，所述硅片研磨液前处理装置还包括进样器，所述进样器与所述反应釜连接，所述进样器用于向所述反应釜注入研磨液、消解液和清洗液中的一项或多项。

在一些实施例中，所述进样器内包括多个相互独立的容纳腔，每一所述容纳腔分别用于容纳研磨液、消解液和清洗液中的一种，各所述容纳腔通过相互独立的连接管线与所述反应釜连接。

在一些实施例中，还包括冲洗组件，所述冲洗组件与所述多通阀连接，所述多通阀还用于控制所述冲洗组件与所述浓缩柱的连通。

在一些实施例中，所述反应釜包括釜体，所述釜体内设置有加热组件、排气组件和液位传感器，所述排气组件配置为随所述加热组件的开启而开启，随所述加热组件的关闭而延迟关闭，所述液位传感器用于检测所述釜体内的液面高度，所述液位传感器与所述定容液供给组件电连接。

在一些实施例中，所述硅片研磨液前处理装置还包括蠕动泵，所述蠕动泵设置于以下位置中的至少一处：

所述反应釜和所述定容液供给组件之间；

所述反应釜与所述多通阀之间；

所述浓缩柱与所述多通阀之间；

进样器与所述反应釜之间；

冲洗组件与所述多通阀之间。

在一些实施例中，所述检测设备为电感耦合等离子体质谱仪。

第二方面，本实用新型实施例提供了一种硅片研磨设备，包括研磨组件和研磨液供给组件，所述研磨液供给组件通过研磨液供应管线向所述研磨组件提供研磨液，所述研磨液供给管线上设置有三通阀，硅片研磨液前处理装置与所述三通阀相连通，所述硅片研磨液前处理装置为第一方面中任一项所述的硅片研磨液前处理装置；