[实用新型]一种薄膜电阻元件有效
申请号: | 202123371131.5 | 申请日: | 2021-12-29 |
公开(公告)号: | CN216818383U | 公开(公告)日: | 2022-06-24 |
发明(设计)人: | 张可;苏陟;喻建国;朱宇华 | 申请(专利权)人: | 广州方邦电子股份有限公司;珠海达创电子有限公司 |
主分类号: | H01L49/02 | 分类号: | H01L49/02 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 赵颖 |
地址: | 510660 广东省广州市高*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 薄膜 电阻 元件 | ||
本实用新型提供了一种薄膜电阻元件,所述薄膜电阻元件包括基板;设置于基板一侧的金属层;设置于所述金属层表面的介电层,所述介电层包括至少1个开口;设置于所述介电层表面的连接层,所述连接层通过介电层的开口与金属层连接;设置于所述连接层表面的电阻层。本实用新型通过设置连接层在介电层表面,并与金属层、电阻层相连接,提高了单位面积的结合力,而且增加了异相材料的结合面积,提高了异相材料间的结合力,使得产品应用可靠性更高,制造稳定性更好。同时,本实用新型将电阻层裸露在金属层的外面,可用于精确的测试和控制电阻阻值,使产品电气性能更稳定。
技术领域
本实用新型属于薄膜器件技术领域,涉及一种薄膜电阻元件。
背景技术
在硅工艺中,元件之间的连接是经由接触或导孔从正面与元件形成接触。但是在制作薄膜电阻时,因为其厚度相当薄,接触或导孔的刻蚀要停止在薄膜电阻上有相当的困难度,并有工艺整合上的问题。当接触或导孔的刻蚀无法停在薄膜电阻上时,薄膜电阻也会一并被刻蚀,进而导致寄生的接触电阻产生,使得元件的电阻值不稳定。
CN 112992447A公开了一种薄膜电阻元件及其制造方法,该薄膜电阻元件的制造方法,包含依序形成电阻层、中间层及电极层于基板的表面上,先移除部分电极层、中间层及电阻层以形成第一图案,以及移除部分电极层及中间层以形成第二图案于电阻层上,藉中间层将小面积的电极层定型于电阻层上,可得到具有低接触阻抗特性的薄膜电阻元件。该薄膜电阻元件包含先于基板上依序形成电阻层、中间层及电极层的叠层结构,再结合不同图案的光阻及数次刻蚀方式使不同层的金属层形成所需的图案,以取得低接触面积的电阻层与电极层的薄膜电阻元件,藉中间层增加电极层与电阻层的附着性,此低金属接触面积的薄膜电阻元件具有稳定的阻值特性,不易受高温影响。
CN 207425835U公开了一种薄膜器件,用于防止由于因树脂层膨胀产生的应力而使薄膜电阻元件破损从而能够得到可靠性高的薄膜器件的。通过在配置于树脂层的与基板相反的一侧的树脂层形成为在俯视中与薄膜电阻元件重叠的第一束缚用薄膜,能够将薄膜电阻元件相对于基板压入,因此能够缓和由于在高温状态下树脂层膨胀而施加于薄膜电阻元件的弯曲应力,能够防止由于因树脂层的膨胀产生的应力而使薄膜电阻元件破损。
然而,由于采用多层异相材料的简单叠层,使得异相材料间结合力差,易出现分层脱离的可靠性问题。同时,电阻层在绝缘层和导体层的中间,使得电阻的精确测量和控制成为困难,产品电阻值波动大,电气性能不稳定。
如何改善分层脱离的情况,同时能够保证电阻值的稳定性,是薄膜器件领域,亟需解决的技术问题。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供了一种薄膜电阻元件,提高了单位面积的结合力,增加了异相材料之间的结合面积和结合力,使得产品应用的可靠性更高,制造稳定性更好。同时,可精确测试和控制电阻阻值,使产品电气性能更稳定。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
本实用新型提供了一种薄膜电阻元件,所述薄膜电阻元件包括基板;
设置于基板一侧的金属层;
设置于所述金属层表面的介电层,所述介电层包括至少1个开口;
设置于所述介电层表面的连接层,所述连接层通过介电层的开口与金属层连接;
设置于所述连接层表面的电阻层。
本实用新型通过设置连接层在介电层表面,并与金属层、电阻层相连接,提高了单位面积的结合力,而且增加了异相材料的结合面积,提高了异相材料间的结合力,使得产品应用可靠性更高,制造稳定性更好。同时,本实用新型将电阻层裸露在金属层的外面,可用于精确的测试和控制电阻阻值,使产品电气性能更稳定。
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