[实用新型]一种溅射镀膜机

说明书

本实用新型提供一种溅射镀膜机，包括：镀膜腔体；靶材机台；靶材机台设置于镀膜腔体下部；溅射基板；溅射基板设置于镀膜腔体上部，与靶材机台相对；第一隔板；第一隔板水平设置；第二隔板；第二隔板水平设置；第一隔板和第二隔板共同形成靶材机台至溅射基板的曲折通道。本实用新型提供的溅射镀膜机，可有效降低溅射镀膜工艺中有机发光结构的损伤。

技术领域

本实用新型涉及OLED制造技术领域，具体涉及一种溅射镀膜机。

背景技术

在OLED制造工艺中，通常使用ITO作为OLED的阳极。制作OLED的阳极通常使用溅射镀膜的方法在有机发光结构上形成ITO膜层。溅射镀膜工艺通常使用溅射镀膜机来进行。通常的溅射镀膜机如图1所示：包括镀膜腔室101。镀膜腔室101上部设置有溅射基板102，溅射基板102用于放置待镀膜的有机发光结构103；镀膜腔室101下部设置有靶材机台，靶材机台用于放置靶材。作业时，向镀膜腔室101中通入氩气，氩气在外加电场作用下产生辉光放电现象产生带电粒子，带电粒子经电场加速后，高速轰击靶材表面，溅射出组成ITO的氧化铟和氧化锡的分子、氧原子、铟原子、锡原子和二次电子；二次电子可再次撞击氩原子，产生更多的带电粒子。进而更多的带电粒子继续轰击靶材表面，溅射出的分子和原子获得大量动能后向有机发光结构103运动，在有机发光结构103表面积累形成ITO层104。溅射出的ITO分子由于携带较高的能量，通常容易对有机发光结构造成损伤，影响OLED器件的显示性能。因此需要一种方案减少溅射镀膜工艺中对有机发光结构103的损伤。

实用新型内容

因此，本实用新型提供一种溅射镀膜机，可有效降低溅射镀膜工艺中有机发光结构的损伤。

本实用新型提供一种溅射镀膜机，包括：镀膜腔体；靶材机台；靶材机台设置于镀膜腔体下部；溅射基板；溅射基板设置于镀膜腔体上部，与靶材机台相对；第一隔板；第一隔板水平设置；第二隔板；第二隔板水平设置；第一隔板和第二隔板共同形成靶材机台至溅射基板的曲折通道。

可选的，第一隔板位于靶材机台和溅射基板之间，第一隔板水平方向上的长度小于镀膜腔体水平方向上的长度；第二隔板位于靶材机台和溅射基板之间，第二隔板水平方向上的长度小于镀膜腔体水平方向上的长度；第二隔板的位置高于第一隔板；第二隔板与第一隔板分别设置于镀膜腔体的相对两侧，且水平相对延伸。

可选的，第一隔板水平方向上的长度小于第二隔板水平方向上的长度。

可选的，第一隔板与第二隔板水平方向上间隔距离4cm～6cm；第一隔板与第二隔板竖直方向上间隔18cm～22cm。

可选的，溅射镀膜机还包括：第三隔板；第三隔板水平设置且位于第二隔板和溅射基板之间；第三隔板、第二隔板和第一隔板共同构成靶材机台至溅射基板的曲折通道。

可选的，第三隔板包括水平方向上相对的两块隔板，两块隔板之间存在间隔。

可选的，第三隔板的两块隔板之间的间隔水平方向上位于第三隔板的正中。

可选的，第三隔板的两块隔板之间间隔16cm～24cm。

可选的，溅射镀膜机还包括：第四隔板；第四隔板上设置有竖直方向上贯通第四隔板的多个通孔，多个通孔均匀排布。

可选的，相邻的通孔之间间隔18cm～22cm。

本实用新型技术方案，具有如下优点：