[实用新型]一种晶片清洗机

权利要求书

1.一种晶片清洗机，包括机架，其特征在于，所述机架上固定有一清洗仓，所述清洗仓内同轴线布置有一置料架，多个晶片以水平姿态沿竖直方向间隔布置在置料架上，所述置料架通过一驱动装置驱动水平转动；

所述清洗仓的内壁围绕其轴线周向布置有多个竖直向下延伸的喷液管，所述清洗仓外设有与喷液管一一对应的供液装置，所述喷液管上沿其长度方向间隔布置有多个第一喷嘴，所述供液装置将清洗液输送至喷液管，第一喷嘴将清洗液喷洒至置料架的晶片上。

2.根据权利要求1所述的晶片清洗机，其特征在于，所述清洗仓的内部为圆柱状，所述喷液管为周向均布在清洗仓的内壁的4个。

3.根据权利要求2所述的晶片清洗机，其特征在于，所述清洗仓的内壁上设有喷水管，所述喷水管与喷液管相平行，所述喷水管上沿其长度方向间隔布置有多个用于向置料架上的晶片喷水的第二喷嘴。

4.根据权利要求3所述的晶片清洗机，其特征在于，所述喷水管为周向均布在清洗仓的内壁的4个。

5.根据权利要求2所述的晶片清洗机，其特征在于，所述清洗仓的内壁上设有喷气管，所述喷气管与喷液管相平行，所述喷气管上沿其长度方向间隔布置有多个用于向置料架上的晶片吹气的第三喷嘴。

6.根据权利要求5所述的晶片清洗机，其特征在于，所述喷气管为周向均布在清洗仓的内壁的4个。

7.根据权利要求1所述的晶片清洗机，其特征在于，所述置料架包括架体和花篮，多个晶片以水平姿态沿竖直方向间隔布置在花篮上，所述花篮以可拆卸的方式固定在所述架体上，所述驱动装置驱动架体转动。

8.根据权利要求7所述的晶片清洗机，其特征在于，所述架体包括由下至上依次布置的底板和盖板，所述驱动装置驱动所述底板转动，所述盖板上设有供花篮进入的开口，所述开口的边缘处设有多个向下延伸至底板上的定位杆，多个定位杆围在花篮的外围用于阻止花篮与架体发生相对转动。

9.根据权利要求8所述的晶片清洗机，其特征在于，所述底板与盖板之间设有拦截杆，所述拦截杆与花篮的开放侧相对用于阻止晶片甩出。

10.根据权利要求1所述的晶片清洗机，其特征在于，所述供液装置包括储液罐和水泵，所述储液罐用于存放清洗液且每个储液罐内的清洗液各不相同，所述储液罐通过水泵将清洗液输送至喷液管内。