[实用新型]一种晶圆检测装置及半导体设备有效

专利信息
申请号: 202123436186.X 申请日: 2021-12-30
公开(公告)号: CN216749825U 公开(公告)日: 2022-06-14
发明(设计)人: 金春锋;施龚伟;刘鹏 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 周耀君
地址: 201315*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 检测 装置 半导体设备
【说明书】:

本实用新型提供了一种晶圆检测装置及半导体设备。晶圆检测装置包括至少一组检测组件,每组所述检测组件包括相对设置的发射装置和接收装置,所述发射装置用于从晶圆放置区域的下方发射光束,所述接收装置用于从晶圆放置区域的上方接收所述光束,并根据是否接收到光束判断出所述晶圆放置区域内是否放置有晶圆。本实用新型通过设置发射装置从晶圆放置区域的下方发射光束,即使发出的光束照射在晶圆的背面,以减小晶圆对光束的影响,从而有效降低误检频率,提高检测的精确性。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造领域,特别涉及一种晶圆检测装置及半导体设备。

背景技术

在半导体制造的多个设备中,需要先将晶圆按照要求放置在设定的位置上,然后再开始后续的工艺。因此,需要在设备中设置相应的检测装置,先进行晶圆有无的检测,即确认设定位置上是否放置有晶圆。

随着半导体技术的发展,芯片种类也越来越多。在不同的芯片的制造过程中,晶圆表面形成的薄膜的材质不一样,使得晶圆表面的反光性也不相同。对于一些表面反光性较强的晶圆,使用现有的检测装置进行检测时,检测用的光束照射在晶圆表面上后容易发生散射而形成干扰光线,导致检测结果出错的频率较高,发生误报警的频率较高。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种晶圆检测装置及半导体设备,以解决现有的检测装置用于检测表面反光性较强的晶圆时,发生误检的频率较高。

为解决上述技术问题,本实用新型提供一种晶圆检测装置,包括:

至少一组检测组件,每组所述检测组件包括相对设置的发射装置和接收装置,所述发射装置用于从晶圆放置区域的下方发射光束,所述接收装置用于从晶圆放置区域的上方接收所述光束,并根据是否接收到光束判断出所述晶圆放置区域内是否放置有晶圆。

可选的,还包括放置台,位于所述晶圆放置区域内,用于放置晶圆。

可选的,所述发射装置发出的光束照射在所述放置台的中间区域。

可选的,在垂直于所述放置台台面的方向上,所述发射装置和所述接收装置与所述放置台间的距离相同,且不少于1cm。

可选的,在平行于所述放置台台面的方向上,所述发射装置和所述接收装置与所述放置台间的距离相同,且不少于1cm。

可选的,还包括腔体,所述检测组件设置在所述腔体的外侧,并在所述腔体的侧壁上设置有第一通孔和第二通孔,所述发射装置通过第一通孔发射光束至所述腔体内,所述接收装置通过所述第二通孔接收光束。

可选的,包括多组所述检测组件,多组所述检测组件环绕在所述晶圆放置区域的外围。

可选的,所述检测组件为激光传感器。

本实用新型还提供了一种半导体设备,包括如上所述的晶圆检测装置。

在本实用新型提供的晶圆检测装置,包括至少一组检测组件,每组检测组件包括相对设置的发射装置和接收装置,所述发射装置用于从晶圆放置区域的下方发射光束,所述接收装置用于从晶圆放置区域的上方接收所述光束,并根据是否接收到光束判断出所述晶圆放置区域内是否放置有晶圆。通过设置发射装置从晶圆放置区域的下方发射光束,即使发出的光束照射在晶圆的背面,以减小晶圆对光束的影响,从而有效降低误检频率,提高检测的精确性。

附图说明

图1为本实用新型一实施例提供的晶圆检测装置的示意图;

图2为本实用新型一实施例提供的晶圆检测装置另一示意图;

图中,

110-发射装置;111-第一发射装置;112-第二发射装置;120-接收装置;121-第一接收装置;122-第二接收装置;200-晶圆;300-放置台;400-腔体;410-第一通孔;420-第二通孔。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202123436186.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top