[发明专利]光刻制造双面触摸传感器的方法

说明书

一种在衬底的两个表面上具有导电电路的触摸传感器是通过在所述衬底中包含UV阻挡材料或在所述衬底上沉积UV阻挡层来制造的。这可用于制造具有透明导体电路或具有对可见光不透明的金属电路的传感器。将光刻胶施加到所述衬底的两个表面上，且通过曝光于UV辐射将图案转印到所述光刻胶。所述UV阻挡层防止施加到一侧的UV辐射曝光相对侧。如果需要，可通过分开一个UV光束来同时曝光两个光刻胶层。

技术领域

本公开的实施例大体上涉及启用触摸屏的系统。更具体来说，本公开的实施例涉及具有导电微网的触摸屏。

背景技术

启用触摸屏的系统允许用户通过屏幕上的手指触摸或触控笔控制系统的各个方面。用户可通过由触摸传感器感测到的触摸或触控笔来与显示装置上所描绘的一个或多个对象直接地交互。触摸传感器通常包含安置于配置成感测触摸的衬底上的导电图案。触摸屏通常用于消费者、商业以及工业系统。

对于需要在透明衬底的两侧上精确对准电路的触摸屏应用，可使用双面光刻方法来同时对电路进行光刻图案化。然而，考虑到衬底和某些导体材料(如氧化铟锡(indium-tin-oxide，ITO))的光学透明特性，通常不可能考虑用以曝光材料的一侧的光也将曝光另一侧。代替仅在衬底的一侧上的唯一图案，相同的图案也将出现在相对侧上。

一种用于解决这一问题的方法是使用两个单独的衬底。将唯一图案曝光于个别衬底上，对准两个图案化的衬底，且用光学透明(clear)黏著层连接衬底。这种方法的几个缺点是额外衬底的成本，第二衬底和黏著层的额外厚度以及难以维持个别衬底上的图案之间的精确对准。

已提出一种通过选择不重叠的特定衬底和感光材料以及曝光光波长来使用单个衬底的替代方法。举例来说，选择不透射低于375纳米的光的衬底材料，选择对365纳米敏感的感光材料，并且使用在365纳米处发射并且滤除370纳米以上的所有波长的光源。在这种情况下，衬底对于过滤后的光源是不透明的，并且光不会到达相对表面。感光材料将响应过滤后的光源波长。可同时将唯一图案施加到衬底的每一侧。这种方法的主要缺点是用于环烯烃聚合物(Cyclo Olefin Polymer，COP)和聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethyleneterephthalate，PET)之类的触摸传感器应用，许多理想的衬底将透射低至315纳米的光。存在感光材料响应低于315纳米的波长，但是其会权衡其它特性，例如对进一步化学处理的抵抗力和对衬底的黏著性以及机械强度。曝光光源也可在低于315纳米时使用，但是其往往很昂贵，且构造来自曝光光源的光所需的光学元件也变得昂贵和专业化。

发明内容

以下呈现一个或多个方面的简化发明内容，以便提供对这些方面的基本理解。此发明内容不是所有预期方面的广泛概述，且既不意图识别所有方面的关键或重要元素，也不意图描绘任何或所有方面的范围。其唯一目的是以简化形式呈现一个或多个方面的一些概念，作为稍后呈现的更详细描述的序言。

本文公开了一种用于制造在衬底的两侧上具有低可见度导电电路的触摸传感器的方法。所述方法为需要透明衬底的两侧上的电路的触摸屏应用提供解决方案。在一些实施例中，将UV吸收层施加到透明衬底的一个表面。接着在一侧上的UV吸收层上施加感光材料，且直接在相对侧上的衬底表面上施加感光材料。可调节UV吸收层以阻挡UV频率激活光刻胶。