[发明专利]防反射膜

权利要求书

1.一种防反射膜，在基材上依次具有硬涂层、密合层和防反射层的防反射膜中，

所述防反射层从所述密合层侧起包含光学厚度为41nm～52nm的第一高折射率层、光学厚度为41nm～53nm的第一低折射率层、光学厚度为302nm～313nm的第二高折射率层、和光学厚度为135nm～196nm的第二低折射率层。

2.一种防反射膜，在基材上依次具有硬涂层、密合层和防反射层的防反射膜中，

所述防反射层从所述密合层侧起包含光学厚度为23nm～35nm的第一高折射率层、光学厚度为66nm～81nm的第一低折射率层、光学厚度为93nm～117nm的第二高折射率层、光学厚度为37nm～52nm的第二低折射率层、光学厚度为79nm～84nm的第三高折射率层、和光学厚度为146nm～155nm的第三低折射率层。

3.根据权利要求1或2所述的防反射膜，在所述防反射层上层叠有防污层。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的防反射膜，所述高折射率层的折射率为2.00～2.60，

所述低折射率层的折射率为1.20～1.60。

5.根据权利要求1所述的防反射膜，所述第一高折射率层包含Nb₂O₅作为主成分，且物理厚度为18nm～22nm，

所述第一低折射率层包含SiO₂作为主成分，且物理厚度为28nm～36nm，

所述第二高折射率层包含Nb₂O₅作为主成分，且物理厚度为130nm～134nm，

所述第二低折射率层包含SiO₂作为主成分，且物理厚度为92nm～95nm。

6.根据权利要求2所述的防反射膜，所述第一高折射率层包含Nb₂O₅作为主成分，且物理厚度为10nm～15nm，

所述第一低折射率层包含SiO₂作为主成分，且物理厚度为45nm～55nm，

所述第二高折射率层包含Nb₂O₅作为主成分，且物理厚度为40nm～50nm，

所述第二低折射率层包含SiO₂作为主成分，且物理厚度为25nm～35nm，

所述第三高折射率层包含Nb₂O₅作为主成分，且物理厚度为30nm～36nm，

所述第三低折射率层包含SiO₂作为主成分，且物理厚度为100nm～106nm。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的防反射膜，波长940nm处的光的透过率为90％以上，

波长940nm处的光的反射率为5％以下。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的防反射膜，视感反射率Y为1.0％以下。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的防反射膜，CIELAB中的a＊值为0～15，b＊值为-18～0。

10.一种防反射膜的制造方法，在基材上将硬涂层、密合层和防反射层依次成膜的防反射膜的制造方法中，

所述防反射层从所述密合层侧起包含光学厚度为41nm～52nm的第一高折射率层、光学厚度为41nm～53nm的第一低折射率层、光学厚度为302nm～313nm的第二高折射率层、和光学厚度为135nm～196nm的第二低折射率层。