[发明专利]防反射膜

说明书

本发明提供一种具有高红外线透过率、而且具有优异弯曲性的防反射膜。其依次具有基材(10)、硬涂层(20)、密合层(30)和防反射层(40)，防反射层从密合层(30)侧起包含光学厚度为41nm～52nm的第一高折射率层(411)、光学厚度为41nm～53nm的第一低折射率层(412)、光学厚度为302nm～313nm的第二高折射率层(413)、和光学厚度为135nm～196nm的第二低折射率层(414)。

技术领域

本技术涉及例如设置于显示装置前面的防反射膜。本申请基于在日本于2020年5月21日申请的日本专利申请号特愿2020-089189要求优先权，该申请通过参照而被引用于本申请中。

背景技术

有时在显示装置的前面设置响应红外线的红外传感器(IR)传感器。因此，期望设置于显示装置前面的防反射膜为红外线的透过率高的防反射膜(例如，参照专利文献1。)。另外，近年来，期望具有适应可折叠有机EL显示器、所谓的可折叠显示器的优异弯曲性的防反射膜。

然而，难以兼顾提高防反射膜的红外线透过率、和尽可能将防反射膜的厚度抑制为薄水平。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2019-53115号公报

发明内容

发明要解决的课题

本技术是鉴于这种以往的实际情况而提出的技术，提供具有高红外线透过率、而且具有优异弯曲性的防反射膜。

用于解决课题的方法

本技术中，在基材上依次具有硬涂层、密合层和防反射层的防反射膜中，上述防反射层从上述密合层侧起包含光学厚度为41nm～52nm的第一高折射率层、光学厚度为41nm～53nm的第一低折射率层、光学厚度为302nm～313nm的第二高折射率层、和光学厚度为135nm～196nm的第二低折射率层。

本技术中，在基材上依次具有硬涂层、密合层和防反射层的防反射膜中，上述防反射层从上述密合层侧起包含光学厚度为23nm～35nm的第一高折射率层、光学厚度为66nm～81nm的第一低折射率层、光学厚度为93nm～117nm的第二高折射率层、光学厚度为37nm～52nm的第二低折射率层、光学厚度为79nm～84nm的第三高折射率层、和光学厚度为146nm～155nm的第三低折射率层。

本技术中，在基材上将硬涂层、密合层和防反射层依次成膜的防反射膜的制造方法中，上述防反射层从上述密合层侧起包含光学厚度为41nm～52nm的第一高折射率层、光学厚度为41nm～53nm的第一低折射率层、光学厚度为302nm～313nm的第二高折射率层、和光学厚度为135nm～196nm的第二低折射率层。

本技术中，在基材上将硬涂层、密合层和防反射层依次成膜的防反射膜的制造方法中，上述防反射层从上述密合层侧起包含光学厚度为23nm～35nm的第一高折射率层、光学厚度为66nm～81nm的第一低折射率层、光学厚度为93nm～117nm的第二高折射率层、光学厚度为37nm～52nm的第二低折射率层、光学厚度为79nm～84nm的第三高折射率层、和光学厚度为146nm～155nm的第三低折射率层。

发明效果

根据本技术，通过将防反射层的层数设为4层或6层，从而能够获得具有高红外线透过率、而且具有优异弯曲性的防反射膜。

附图说明

[图1]图1是示意性地表示应用了本技术的防反射膜的截面图。

[图2]图2是示意性地表示第一实施方式涉及的防反射膜中的防反射层的截面图。

[图3]图3是示意性地表示第二实施方式涉及的防反射膜中的防反射层的截面图。