[发明专利]镀覆装置以及镀覆装置的接触部件清洗方法

说明书

本发明涉及镀覆装置以及镀覆装置的接触部件清洗方法。本发明提供一种能够通过简单的构造来清洗接触部件的技术。镀覆装置(1000)具备镀覆槽、基板保持件(20)、旋转机构、升降机构、接触部件(40)、以及清洗接触部件(40)的清洗装置(50)，清洗装置(50)具有回转轴(51)、第一臂(53)、第二臂(54)、以及具有至少一个喷出口的喷嘴(55)，上述清洗装置(50)构成为通过从喷出口喷出的清洗流体碰触接触部件(40)来清洗接触部件(40)。

技术领域

本发明涉及镀覆装置以及镀覆装置的接触部件清洗方法。

背景技术

以往，作为能够对基板实施镀覆处理的镀覆装置，公知有所谓的杯式的镀覆装置(例如，参照专利文献1)。这样的镀覆装置具备：镀覆槽；基板保持件，配置于比被配置在镀覆槽的内部的阳极靠上方的位置，对作为阴极的基板进行保持；以及旋转机构，使基板保持件旋转。

在上述那样的现有的镀覆装置的基板保持件，通常配置有用于对基板供电的接触部件。在该接触部件受到污染的情况下，接触部件的电阻值发生变化，基板的镀覆品质有可能变差。因此，开发出了能够清洗该接触部件的清洗装置所相关的技术(例如，参照专利文献2)。

专利文献1：日本特开2008-19496号公报

专利文献2：美国专利申请公开第2013/0061875号说明书

然而，上述那样的现有的接触部件的清洗装置的构造复杂。

发明内容

本发明是鉴于上述状况而完成的，其目的之一在于提供一种能够通过简单的构造，清洗接触部件的技术。

(方式1)

为了实现上述目的，本发明的一个方式所涉及的镀覆装置具备：镀覆槽；基板保持件，配置于比被配置在上述镀覆槽的内部的阳极靠上方的位置，能够对作为阴极的基板进行保持；旋转机构，使上述基板保持件旋转；升降机构，使上述基板保持件升降；接触部件，配置于上述基板保持件，并且与上述基板的下表面的外周缘接触而对上述基板供电；以及清洗装置，清洗上述接触部件，上述清洗装置具有：回转轴，配置于上述基板保持件的径向上外侧的区域并沿上下方向延伸；第一臂，与上述回转轴连接并沿水平方向延伸；第二臂，从上述第一臂的与连接于上述回转轴的那一侧相反侧的端部朝向上方延伸；以及喷嘴，与上述第二臂的上端连接，具有朝向下方开口并且喷出清洗流体的至少一个喷出口，上述清洗装置构成为通过从该喷出口喷出的上述清洗流体碰触上述接触部件来清洗上述接触部件。

根据该方式，能够通过由上述那样的回转轴、第一臂、第二臂、喷嘴等简单的构造构成的清洗装置，来清洗接触部件。

另外，根据该方式，通过第一臂及第二臂这两个臂，能够将喷嘴配置于回转轴中的距第一臂的连接部位更远的部位。由此，能够有效地清洗接触部件。另外，根据该方式，由于能够通过使回转轴回转而使喷嘴移动(回转移动)，因此能够使基于清洗流体的清洗部位容易地变化。由此，能够容易地清洗接触部件的大范围。

(方式2)

在上述方式1中，上述喷嘴可以以上述第二臂的上端为起点朝向上述回转轴的那一侧延伸，在俯视观察时，沿上述喷嘴的长度方向延伸的轴线与沿上述第一臂的长度方向延伸的轴线所成的角成为10度以上且70度以下的角度。

根据该方式，能够容易地使从喷嘴的喷出口喷出的清洗流体碰触接触部件。由此，能够有效地清洗接触部件。

(方式3)