[发明专利]用于掩模版粒子检测的所关注的区处理的方法

权利要求书

1.一种检查系统，包括：

辐射源，所述辐射源被配置成产生辐射束并且被配置成：

照射物体的第一表面，所述束的第一参数限定所述物体的所述第一表面的区，和

照射所述物体的第二表面，所述束的第二参数限定所述第二表面的区，其中所述第二表面位于所述物体内的与所述第一表面不同的深度水平处；

检测器，所述检测器被配置成：

限定所述第一表面的包括所述第一表面的所述区的视场(FOV)，和

接收从所述第一表面的所述区和所述第二表面的所述区散射的辐射；以及

处理电路系统，所述处理电路系统被配置成：

丢弃并非从所述第一表面的所述区接收的图像数据，和

构造合成图像，所述合成图像包括来自遍及所述第一表面的整个所述区的所述图像数据。

2.根据权利要求1所述的检查系统，其中，所述第一表面的所述区与所述第二表面的所述区在所述FOV内不交叠。

3.根据权利要求1所述的检查系统，其中：

所述辐射源还被配置成产生第二辐射束并且照射所述物体的所述第一表面，所述第二束限定所述第一表面的位于所述FOV内的另一区；

所述检测器还被配置成接收从所述第一表面的所述另一区和所述第二表面的至少一个其它区散射的辐射，其中所述第一表面的所述另一区和所述第二表面的所述至少一个其它区在所述FOV中不交叠；并且

所述处理电路系统还被配置成：

丢弃并非从所述第一表面的所述另一区接收的图像数据，和构造所述合成图像以包括来自遍及所述第一表面的整个所述区和来自遍及所述第一表面的整个所述另一区的图像数据。

4.根据权利要求3所述的检查系统，其中，所述处理电路系统还被配置成根据所述合成图像来确定粒子是否位于所述FOV内。

5.根据权利要求3所述的检查系统，其中，所述第一表面的所述区的形状与所述第一表面的所述另一区的形状无关。

6.根据权利要求1所述的检查系统，其中，所述第二表面的所述区的形状与所述第一表面的所述区的形状相对应。

7.根据权利要求1所述的检查系统，其中：

所述第二表面包括位于所述第一表面的所述区下方的、具有与所述第一表面的所述区相对应的尺寸的另一区，以及

当所述第一表面的所述区受照射时所述第二表面的所述另一区没有受照射。

8.根据权利要求1所述的检查系统，其中：

所述束的宽度由第一照射光锥和第二照射光锥限定，所述第一照射光锥和第二照射光锥包括两条边缘射线和一条主射线，

所述第一表面的所述区的宽度由第一观测光锥和第二观测光锥限定，所述第一观测光锥和第二观测光锥包括两条边缘射线和一条主射线，

所述照射光锥的主射线与所述观测光锥的主射线在所述物体的所述第一表面处相交，以及

所述照射光锥的边缘射线与所述观测光锥的边缘射线在所述物体的所述第二表面处不相交。

9.根据权利要求1所述的检查系统，还包括光调制元件，所述光调制元件被配置成确定所述第一表面的所述区在所述FOV内的位置和坐标。

10.根据权利要求1所述的检查系统，其中，所述第二表面的所述区包括衍射图案。