[发明专利]用于曝光浮雕前体的设备和方法

权利要求书

1.一种用于曝光浮雕前体(P)的设备，所述浮雕前体(P)包括基板层和至少一个光敏层，所述设备包括：

-第一光源(1)，其被配置成照射所述浮雕前体的第一侧；

-可移动的第二光源(2)，其被配置成照射所述浮雕前体的与所述第一侧相对的第二侧；

-可移动的屏蔽件(3)，其位于所述第一光源与所述第二光源(2)之间，并且被配置成捕捉所述第二光源的透过所述浮雕前体(P)的光的至少一部分；和

-移动装置，其被配置成使所述可移动的屏蔽件与所述第二光源同时移动。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述第一光源大致在旨在与所述浮雕前体平行的平面中延伸；并且其中，所述第二光源能够在与所述第一光源的所述平面平行的平面中移动。

3.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述第一光源是固定的。

4.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述第一光源被配置成照射平面的第一照射区域，并且所述第二光源被配置成照射所述平面的第二照射区域，其中，所述平面位于所述屏蔽件与所述第二光源之间并且与所述浮雕前体的所述第一侧旨在位于的平面相对应，其中，所述第二照射区域比所述第一照射区域小至少两倍，更优选地小至少三倍，并且最优选地小至少五倍。

5.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述屏蔽件对于从所述第二光源发射的电磁辐射是不透明的。

6.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述屏蔽件的面向所述第二光源的表面被配置成吸收在所述表面上接收的80％以上的电磁辐射，优选地95％以上的电磁辐射。

7.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述可移动的屏蔽件机械地联接到所述第二光源或者可独立地移动。

8.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述屏蔽件在位于所述屏蔽件与所述第二光源之间的并且与所述浮雕前体的所述第一侧旨在位于的平面相对应的平面上的垂直投影比所述第二光源在所述平面上的照射区域大1％至10％，优选地大5％至10％，其中，所述照射区域由强度高于区域中的光强度的最大值的10％的所述区域限定。

9.根据前述权利要求中任一项所述的设备，还包括承载结构(4)，所述承载结构(4)被配置用于支撑所述浮雕前体，所述承载结构位于所述第二光源与所述屏蔽件之间。

10.根据前一权利要求所述的设备，其中，所述承载结构对于从所述第一光源发射的电磁辐射是透明的。

11.根据权利要求9或10所述的设备，其中，所述承载结构与所述可移动的屏蔽件之间的距离(d)小于50mm，优选地小于20mm，更优选地小于10mm。

12.根据前述权利要求中任一项所述的设备，还包括冷却装置，所述冷却装置被配置成冷却所述可移动的屏蔽件。

13.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述第一光源选自包括多个LED、荧光灯、闪光灯、灯管组、LCD屏幕、光投影系统(具有可移动反射镜)、太阳光收集系统、及其组合的组。

14.根据前述权利要求中任一项所述的设备，还包括控制装置，所述控制装置用于根据所述可移动的屏蔽件的位置来控制所述第一光源。

15.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中，所述第一光源包括灯管组，并且其中，所述控制装置被配置用于在第一时间段期间为所述第一光源供电并且用于在随后的时间段期间为所述第二光源供电以及移动所述第二光源。