[发明专利]用于曝光浮雕前体的设备和方法在审

专利信息
申请号: 202180010729.5 申请日: 2021-01-18
公开(公告)号: CN115004112A 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 德克·卢多·朱利安·德·劳;皮尔特·蓝森斯;弗雷德里克·德弗 申请(专利权)人: 阿合斯印前有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 关志琨
地址: 比利时*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 曝光 浮雕 设备 方法
【说明书】:

公开了一种用于曝光浮雕前体(P)的设备,该浮雕前体(P)包括基板层和至少一个光敏层,所述设备包括:第一光源(1),其被配置成照射浮雕前体的第一侧;可移动的第二光源(2),其被配置成照射浮雕前体的与第一侧相对的第二侧;可移动屏蔽件(3),其位于第一光源与第二光源(2)之间,并且被配置成捕捉第二光源的透过浮雕前体(P)的光的至少一部分;以及移动装置,其被配置成使可移动屏蔽件与第二光源同时移动。

技术领域

发明领域涉及用于曝光浮雕前体(relief precursor),特别地涉及印刷版前体,并且更特别地涉及用于正面和背面曝光印刷版前体的设备和方法。

背景技术

可以通过将图像信息转移到可成像层上并去除部分可成像层来形成浮雕结构。然后,所形成的浮雕可以用于在印刷步骤中将信息转移到基板上。浮雕前体的示例是印刷版前体。可数字化成像的柔性印刷版前体是已知的,并且通常至少包括尺寸稳定的支撑层、光敏层和可数字化成像层。可数字化成像层可以是例如可激光烧蚀层。在常规印刷版前体的情况下,用贴附于光敏层的掩模(mask)来代替可数字化成像层。

为了由印刷版浮雕前体生产印刷版,根据现有方法,首先基于待印刷的图像数据将掩模写入可数字化成像层中。在写入掩模之后,通过掩模用辐射曝光该版,使得光敏层在未被掩模覆盖的区域中经历聚合或交联或改变光敏层的溶解性或流动性的反应。在曝光之后,去除掩模和光敏层的未曝光部分的残留物。这可以在清洗装置中用一种或多种液体或通过热显影来进行,其中在热显影中,通过温度升高液化光敏层的未曝光材料并将其去除。

用于印刷版前体的曝光装置是已知的。曝光装置可以包括用于背面曝光的第一光源和用于正面曝光的第二光源。背面曝光可以使用一组UV(紫外)灯管进行。背面曝光产生在上面生成浮雕结构的固体层(底层)。正面曝光也可以使用一组UV灯管进行,或者可以使用可移动UV光源(例如可移动激光器或LED条)进行。根据需要,一些曝光装置仅进行正面曝光或仅进行背面曝光。在一些情况下,曝光装置能够从两侧曝光,并且本发明的实施例涉及这样的情况。

US2016/0368260A1公开了用于柔性版印刷版的光聚合的自主装置,该版包括主面和与所述主面相对的基部。该装置包括曝光室,在该曝光室中安装所述版的所述基部的至少第一光聚合装置。该装置还包括移动装置,其被配置成沿着进给方向拖动版。第一光聚合装置包括根据大致正交于所述进给方向的方向排列的一排LED。

US2018/0210345A1公开了从主侧(顶部)以预定辐射密度和从背侧(底部)以预定辐射密度对光敏印刷版进行曝光的方法。方法包括在背面曝光之后以一定的时间延迟执行主曝光。

发明内容

本发明实施例的目的是提供用于曝光包括基板层和至少一个光敏层的浮雕前体的设备和方法,其使用第一光源来照射浮雕前体的第一侧,并且使用第二光源来照射浮雕前体的第二侧,同时避免重影并且限制第一光源被第二光源加热。

根据本发明的第一方面,该设备包括第一光源、可移动的第二光源、可移动的屏蔽件和移动装置。第一光源被配置成照射浮雕前体的第一侧。可移动的第二光源被配置成照射浮雕前体的与第一侧相对的第二侧。可移动屏蔽件位于第一光源与第二光源之间,并且被配置成捕捉来自第二光源的透过浮雕前体的光的至少一部分。移动装置被配置成使可移动屏蔽件与第二光源同时移动。

因此,根据本发明的实施例,使用了屏蔽件,该屏蔽件与第二光源一起行进,以限制从第二光源朝向第一光源的光量,并且因此限制由第一光源的部件(例如上面安装光元件的支撑件)或者由第一光源附近的部件(例如布置在第一光源上方的遮光件)的反射量。这将防止或减少由反射光生成的重影的存在。进一步地,减少了对第一光源的部件和第一光源附近的部件的加热。特别地,当遮光件存在于第一光源上方时,可以减少第一光源的发热,并且避免其烧毁。

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